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美國Filmetrics測量儀代理銷售

詳細(xì)介紹

美國Filmetrics測量儀代理銷售
Filmetrics F20便攜式膜厚測試儀
Filmetrics簡介
經(jīng)濟(jì)有效的Filmetrics薄膜厚度測量系統(tǒng),測量薄膜厚度僅需幾秒鐘。
Filmetrics 膜厚測試儀產(chǎn)品輕點(diǎn)鼠標(biāo)就能測量1納米到13毫米的薄膜厚度。幾乎所有的材料都可以被測量。直觀的設(shè)計(jì)意味著您能在幾分鐘內(nèi)完成*個(gè)薄膜厚度測量！
1.只需要運(yùn)行基于Windows的軟件，連接Filmetrics設(shè)備，然后，開始測量。
2.方便地存儲或輸出詳細(xì)測量資料。
3.快速地將我們的厚度測量系統(tǒng)與其它系統(tǒng)通過.NET軟件整合。
每秒兩個(gè)點(diǎn)薄膜測繪F20 薄膜厚度的測量系統(tǒng)
測量反射率和透射率
測量光斑小至1微米(μm)
每秒兩個(gè)點(diǎn)薄膜測繪
美國Filmetrics原裝*
自動(dòng)晶圓處理系統(tǒng)
Filmetrics F20產(chǎn)品簡介：
1 有五種不同波長選擇(波長范圍從紫外220nm至近紅外1700nm)；
2 zui大樣品薄膜厚度的測量范圍是：3nm ～ 25um；
3 精度為好于0.1nm。
產(chǎn)品特性：
1 、操作簡單、使用方便；
2 、測量快速、準(zhǔn)確；
3 、體積小、重量輕；
4 、價(jià)格便宜。
Filmetrics F20產(chǎn)品應(yīng)用：
1 、半導(dǎo)體行業(yè): 光阻、氧化物、氮化物；
2 、LCD 行業(yè): 液晶盒間隙厚度、 Polyimides；用f20來測量透明的藍(lán)寶石上的光刻膠，ito，多層氧化硅氧化鈦等薄膜厚度，該機(jī)操作簡易，毫秒間就能測量出準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)。
3 、光電鍍膜應(yīng)用: 硬化膜、抗反射膜、濾波片。
Filmetrics F20的技術(shù)
我們通過分析光如何從薄膜反射來測量薄膜厚度。通過分析肉眼看不見的光譜我們能測量幾乎所有超過100原子厚度的非金屬薄膜。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，幾秒鐘之內(nèi)就能測出：薄膜厚度，折射率，甚至粗燥度！
其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間，測量精度高達(dá)1埃，測量穩(wěn)定性高達(dá)0.7埃，測量時(shí)間只需一到二秒, 并有手動(dòng)及自動(dòng)機(jī)型可選?？蓱?yīng)用領(lǐng)域包括：生物醫(yī)學(xué)（Biomedical）, 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors) , 太陽光伏(Solar photovoltaics), 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。
美國Filmetrics測量儀代理銷售
通過Filmetrics膜厚測量儀反射式光譜測量技術(shù),zui多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應(yīng)用廣泛，例如 :
半導(dǎo)體工業(yè) : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工業(yè) : 間距 (cell gaps)，ito電極、polyimide 保護(hù)膜。
光電鍍膜應(yīng)用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。
極易操作、快速、準(zhǔn)確、機(jī)身輕巧及價(jià)格便宜為其主要優(yōu)點(diǎn)，F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇:
F20 : 這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區(qū) 至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型，可以實(shí)現(xiàn)反射、膜厚、n、k值測量。
F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機(jī)腔體外的窗口。可實(shí)時(shí)監(jiān)控長晶速度、實(shí)時(shí)提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時(shí)間間距。更可加裝至三個(gè)探頭，同時(shí)測量三個(gè)樣品，具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長可供選擇。
F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供zui小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。
F50:這型號配備全自動(dòng)XY工作臺，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。
F70:僅通過在F20基本平臺上增加鏡頭，使用Filmetrics的顏色編碼厚度測量法（CTM），把設(shè)備的測量范圍*的拓展至3.5mm。
F10-RT：在F20實(shí)現(xiàn)反射率跟穿透率的同時(shí)測量，特殊光源設(shè)計(jì)特別適用于透明基底樣品的測量。
PARTS：在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70?光源，特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量。
高級膜厚測量儀系統(tǒng)F20
使用F20高級分光計(jì)系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學(xué)參數(shù)（n和k）。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù)。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個(gè)桌面系統(tǒng)組裝起來。
F20包括所有測量需要的部件：分光計(jì)、光源、光纖導(dǎo)線、鏡頭集合和Windows下運(yùn)行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。
膜層實(shí)例

Filmetrics光學(xué)膜厚測量儀的資料

其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間，測量精度高達(dá)1埃，測量穩(wěn)定性高達(dá)0.7埃，測量時(shí)間只需一到二秒, 并有手動(dòng)及自動(dòng)機(jī)型可選。可應(yīng)用領(lǐng)域包括：生物醫(yī)學(xué)（Biomedical）, 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors) , 太陽光伏(Solar photovoltaics), 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。
通過Filmetrics膜厚測量儀反射式光譜測量技術(shù),zui多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應(yīng)用廣泛，例如 :
半導(dǎo)體工業(yè) : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工業(yè) : 間距 (cell gaps)，ito電極、polyimide 保護(hù)膜。
光電鍍膜應(yīng)用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。
極易操作、快速、準(zhǔn)確、機(jī)身輕巧及價(jià)格便宜為其主要優(yōu)點(diǎn)，F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇:
F20 : 這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區(qū) 至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型，可以實(shí)現(xiàn)反射、膜厚、n、k值測量。
F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機(jī)腔體外的窗口。可實(shí)時(shí)監(jiān)控長晶速度、實(shí)時(shí)提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時(shí)間間距。更可加裝至三個(gè)探頭，同時(shí)測量三個(gè)樣品，具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長可供選擇。
F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供zui小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。
F50:這型號配備全自動(dòng)XY工作臺，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。
F70:僅通過在F20基本平臺上增加鏡頭，使用Filmetrics的顏色編碼厚度測量法（CTM），把設(shè)備的測量范圍*的拓展至3.5mm。
F10-RT：在F20實(shí)現(xiàn)反射率跟穿透率的同時(shí)測量，特殊光源設(shè)計(jì)特別適用于透明基底樣品的測量。
PARTS：在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70º光源，特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量。

高級膜厚測量儀系統(tǒng)F20

使用F20高級分光計(jì)系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學(xué)參數(shù)（n和k）。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù)。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個(gè)桌面系統(tǒng)組裝起來。

F20包括所有測量需要的部件：分光計(jì)、光源、光纖導(dǎo)線、鏡頭集合和Windows下運(yùn)行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。

膜層實(shí)例

幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括：

sio₂（二氧化硅） sin_^x（氮化硅） dlc（類金剛石碳）

photoresist（光刻膠） polyer layers（高分子聚合物層） polymide（聚酰亞胺）

polysilicon（多晶硅） amorphous silicon（非晶硅）

基底實(shí)例：

對于厚度測量，大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學(xué)常數(shù)測量，需要一塊平整的鏡面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要進(jìn)行處理使之不能反射。

包括：
silicon（硅） glass（玻璃） aluminum（鋁）

gaas（砷化鎵） steel（鋼） polycarbonate（聚碳酸脂）

polymer films（高分子聚合物膜）

應(yīng)用

半導(dǎo)體制造

液晶顯示器

光學(xué)鍍膜

photoresist光刻膠

oxides氧化物

nitrides氮化物

cell gaps液晶間隙

polyimide聚酰亞胺

ito納米銦錫金屬氧化物

hardness coatings硬鍍膜

anti-reflection coatings增透鍍膜

filters濾光

f20 使用高級仿真活動(dòng)來分析光譜反射率數(shù)據(jù)。

標(biāo)準(zhǔn)配置和規(guī)格

	F20-UV	F20	F20-NIR	F20-EXR
只測試厚度	1nm ~ 40μm	15nm ~ 100μm	100nm ~ 250μm	15nm ~ 250μm
測試厚度和n&k值	50nm and up	100nm and up	300nm and up	100nm and up
波長范圍	200-1100nm	380-1100nm	950-1700nm	380-1700nm
準(zhǔn)確度	大于 0.4％或 2nm
精度	1A		2A	1A
穩(wěn)定性	0.7A		1.2A	0.7A
光斑大小	20μm至1.5mm可選
樣品大小	1mm至300mm 及更大
探測器類型	1250-元素硅陣列		512-元素砷化銦鎵	1000-元素硅 & 512-砷化銦鎵陣列
光源	鎢鹵素?zé)簦盁?/p>
電腦要求	60mb 硬盤空間 50mb 空閑內(nèi)存 usb接口
電源要求	100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a

選配以下鏡頭，就可在F20的基礎(chǔ)上升級為新一代的F70膜厚測量儀。

鏡頭配件	厚度范圍 (Index=1.5)	精度	光斑大小
UPG-F70-SR-KIT	15 nm-50 μm	0.1 nm	標(biāo)配1.5 mm (可選配下至20 μm)
LA-CTM-VIS-1mm	50 μm-1.5 mm	0.15 μm	5 μm
LA-CTM-VIS-2.4mm	150 μm-3.5 mm	0.1 μm	10 μm