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利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。
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在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
石墨烯的生產(chǎn)工藝
制備石墨烯的方法有很多。但歸納起來兩大類，一類是從大往小做，也叫自上而下法。例如，以石墨為原料，通過膠帶粘貼、氧化還原、液相插層和機械剝離等手段破壞石墨晶體的長程有序堆疊，得到單層或少數(shù)幾層的石墨烯。另一類是從小往大長，也叫自下而上法。例如，以含碳小分子等為前驅(qū)體，采用化學(xué)氣相沉積、外延生長和有機合成等方法將碳素組裝成石墨烯。
當(dāng)前相對成熟的技術(shù)分別是，以氧化還原和液相插層為代表的大規(guī)模粉體，和以化學(xué)氣相沉積為代表的大面積薄膜。兩者生產(chǎn)工藝*不同，而產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域也基本不重疊。前者通常以重量來計，可達(dá)公斤至噸級，產(chǎn)品剝離效率高、比表面積大、成本低，但缺陷多、可控性差，一般用作鋰電池和超級電容器電極導(dǎo)電填料，或用于塑料、油墨、涂料、金屬和陶瓷等多種基體的增強或功能填料，形成納米復(fù)合材料。而后者通常以面積來計量，依托其高透光率和面向電導(dǎo)率，通常作為透明電極用于觸摸屏和光伏等領(lǐng)域。
但是。當(dāng)前主要瓶頸有兩點，一是低成本高品質(zhì)石墨烯原料的規(guī)模化生產(chǎn)，二是石墨烯的商業(yè)化應(yīng)用。有人可能覺得*個已不是問題，因為已有多個十噸乃至百噸級產(chǎn)線投產(chǎn)，規(guī)模化看似已迎刃而解。事實真是如此嗎？除了產(chǎn)能，我認(rèn)為更重要的是品質(zhì)，因為原料的品質(zhì)直接決定其應(yīng)用屬性。對于實際應(yīng)用，純度是否足夠高？批次穩(wěn)定性如何？成本是否還有壓縮空間？生產(chǎn)過程可否更綠色？技術(shù)的進(jìn)步永無止境，可靠的原料永遠(yuǎn)是石墨烯產(chǎn)業(yè)化的基石。
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對于第二點，我想大家談的比較多了，這是產(chǎn)品出路和價值體現(xiàn)的問題，非常關(guān)鍵，但也很難。作為一種新材料，石墨烯的*年屬于應(yīng)用發(fā)散期，即大家認(rèn)為石墨烯幾乎是*的，然后在不同領(lǐng)域嘗試應(yīng)用，是在做加法。目前，我們已步入應(yīng)用集中期，要開始做減法了，因為大部分潛在應(yīng)用在實踐中被證實并無實用價值，或是技術(shù)上，或是商業(yè)上。在這個階段，產(chǎn)業(yè)鏈上下游的互動非常必要。我們必須面向用戶進(jìn)行二次開發(fā)，去解決分散和成型等共性技術(shù)難題，讓石墨烯更接“地氣”。zui終交給用戶的，不僅是高品質(zhì)的材料，還有配套的應(yīng)用解決方案，也就是solution。
有可能你會問 一般國內(nèi)做碳管或者石墨烯會用砂磨機或者球磨機 超聲波分散機等等？ 球磨機或者砂磨機他們偏重研磨炸 會破壞他們的內(nèi)部結(jié)構(gòu) 。 我們的研磨分散機偏重 分散剝離 。超聲波不適合工業(yè)化生產(chǎn)，只是作為一種輔助分散。
研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。
在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
納米研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
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CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國*的高速研磨分散技術(shù)，通過超高
轉(zhuǎn)速（zui高可達(dá)14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。
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石墨烯剝離設(shè)備 石墨烯分散設(shè)備
是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
石墨烯剝離設(shè)備參數(shù)和型號
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
石墨烯設(shè)備，石墨烯剝離設(shè)備
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