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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
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產(chǎn)品型號CMD2000
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
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更新時間:2017-03-10 10:08:49瀏覽次數(shù):359次
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注射用*研磨機(jī),注射用*提取研磨機(jī),*研磨機(jī),小牛*研磨機(jī) GMP注射用*膠體磨,*高速膠體磨,小牛*膠體磨,*膠磨機(jī),注射用*膠體磨,*膠體磨,小牛*膠體磨,高速膠體磨 注射用*膠體磨,*膠體磨,小牛*膠體磨,高速膠體磨
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詳情請接洽上海依肯,段,手機(jī),(同) ,公司有樣機(jī)供客戶實驗
注射用*膠體磨,*膠體磨,小牛*膠體磨,高速膠體磨 小牛*,是一款處方藥,為注射液。從健康小牛胸腺中提取的胸腺a1及其他小分子多肽。
輔料為*和亞硫酸氫鈉。
粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達(dá)到互相包裹,近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是,在某一能量水平上, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達(dá)到動態(tài)的平衡。
IKN膠體磨由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果
為了達(dá)到巨大的能量輸入,IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機(jī)固定三千轉(zhuǎn)的前提下,我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達(dá)到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強(qiáng)度夠不夠?機(jī)械密封會不會因為產(chǎn)生大量的熱而損毀泄露?主軸會不會偏振的很厲害,定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關(guān)注點,也應(yīng)該是廣大客戶在選型時應(yīng)該重視的幾個方面。
IKN研磨機(jī)與國內(nèi)研磨機(jī)比較:
轉(zhuǎn)速和剪切力:
國內(nèi)研磨機(jī),3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨機(jī),9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素,相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
設(shè)備設(shè)計構(gòu)造:
國內(nèi)研磨機(jī),臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu),運(yùn)行時間長,容易造成軸的偏心,運(yùn)轉(zhuǎn)不正常,需要專業(yè)的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN研磨機(jī),立式分體結(jié)構(gòu),運(yùn)行時間長,不易造成軸的偏心,容易更換,而且只要更換相應(yīng)的皮帶,一般的人員可以操作。
密封:
國內(nèi)研磨機(jī),填料密封或骨架密封,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀
IKN研磨機(jī),雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時不停運(yùn)轉(zhuǎn),特殊德國PDFE軸封,可以運(yùn)行10000小時,可選擇德國高品質(zhì)機(jī)械密封,在一般的情況下,我們的機(jī)械密封可以zui大承受16bar 壓力,根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口zui大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
產(chǎn)品效果:
國內(nèi)研磨機(jī),粒徑細(xì)度有限,10微米以下較困難,重復(fù)性差,產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切研磨機(jī) 可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級分散乳化粉碎
注射用*研磨機(jī),注射用*提取研磨機(jī),*研磨機(jī),小牛*研磨機(jī) 注射用*膠體磨,*膠體磨,小牛*膠體磨,高速膠體磨
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GMP注射用*膠體磨,*高速膠體磨,小牛*膠體磨,*膠磨機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 80000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
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主營產(chǎn)品:乳化機(jī)、膠體磨、分散機(jī)、均質(zhì)機(jī)、研磨機(jī)、研磨分散機(jī)、成套設(shè)備
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