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無錫半導體污水處理企業(yè)

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更新時間：2020-03-18 12:27:10瀏覽次數(shù)：254次

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蘇州依斯倍環(huán)保裝備科技有限公司

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產品簡介

處理水量	4000m3/h	加工定制	是
空氣量	5000m3/min

隨著電子產品應用領域日益擴大，半導體對我國發(fā)展具有重要的意義。根據無錫半導體污水處理企業(yè)的特點，可將半導體廢水分為以下幾種，詳細介紹如下：

詳細介紹

隨著電子產品應用領域日益擴大，半導體對我國發(fā)展具有重要的意義。半導體涉及行業(yè)廣泛，根據生產原料及工序的不同，產生廢水的廢水性質也不同，但都存在著排水量大，污染能力強的特點，嚴重危害生態(tài)環(huán)境健康的同時也制約其發(fā)展。

根據無錫半導體污水處理企業(yè)的特點，可將半導體廢水分為以下幾種，詳細介紹如下：

1、含氟廢水，廢水主要來自于半導體生產工序的刻蝕段，由于使用了大量的氟化銨等試劑，產生的污染如氟化物、氨氮等濃度較高，廢水一般呈強酸性；

2、有機廢水，其污染物質主要是一些常規(guī)污染物，生產濃度跟生產工藝及操作管理水平關系較大，COD一般在200～3000mg/L；

3、金屬離子廢水，半導體廢水中的金屬離子種類眾多，主要如銅、鎳、錫、鉛、銀等，濃度一般在幾十mg/L。

無錫半導體污水處理企業(yè)回用工藝特點：

1、中水回用設備淤泥產出量低、臭氣產出量低、能量需求量低，化學品需要量較小或為零。

2、資源利用經本系統(tǒng)處理后的回用水，滿足嚴格的工廠回用水品質要求，可供應純水系統(tǒng)或直接回用到生產線。

3、性價比高本系統(tǒng)操作便捷，抗沖擊負荷，占地緊湊，穩(wěn)定性高，運轉成本低，經過大量成功案例驗證。半導體生產廢水主要來自車間的鍍槽、清洗水等，廢水中含有的主要污染物有：Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸堿等。半導體生產廢水排放量大，廢水污染物種類多，成份復雜，尤其是溶解固體和懸浮固體在含量、酸堿度和金屬雜質方面的差異，使半導體廢水回用對常規(guī)技術處理造成了挑戰(zhàn)。

關鍵詞：中水回用設備