詳細(xì)介紹
光氧廢氣裝置(一重破壞、分解,三重催化氧化)
破壞
采用高能C波段(僅次于切割不銹鋼的激光,強(qiáng)于氬弧焊光源的數(shù)十倍強(qiáng)度)在設(shè)備內(nèi),強(qiáng)裂解惡臭物質(zhì)分子鏈,改變物質(zhì)結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì),裂解、氧化成為低分子無害物質(zhì),如水和二氧化碳等。
催化氧化
1、o3強(qiáng)催化氧化劑進(jìn)行廢氣催化氧化,可有效地殺滅細(xì)菌,將有毒有害物質(zhì)破壞且改變成為低分子無害物質(zhì)。
2、催化劑涂層,在C波段激光刺激它產(chǎn)生活性,強(qiáng)化催化氧化作用。
3、在分解過程中產(chǎn)生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2-O3(臭氧),*臭氧對有機(jī)物具有*的氧化作用,對惡臭氣體及其它剌激性異味有*的清除效果。O3也為強(qiáng)催化氧化劑進(jìn)行廢氣催化氧化,裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),*達(dá)到脫臭及殺滅菌的目的。