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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀--VTC-600-2HD

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VTC-600-2HD是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個(gè)靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個(gè)采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測(cè)厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。

詳細(xì)介紹

技術(shù)參數(shù)

結(jié)構(gòu)
輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 2000W (包括泵)
濺射電源	安裝有兩個(gè)濺射電源直流（DC）電源：500W，針對(duì)于制作金屬膜射頻（RF）電源：600W，可制作氧化物和金屬膜同時(shí)可選配300W的射頻電源
磁控濺射頭	儀器中安裝有2個(gè)磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對(duì)靶材降溫其中一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材靶材尺寸要求：金屬靶：直徑為50mm,大厚度1.5mm 陶瓷靶：直徑為50mm,大厚度6mm 儀器中標(biāo)配一個(gè)不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī)）也可以根據(jù)自己的要求選擇2個(gè)射頻濺射頭或3個(gè)射頻濺射頭，訂購(gòu)前需于本公司銷售人員
真空腔體	真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作觀察窗口： 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易
載樣臺(tái)	載樣臺(tái)尺寸：140mm dia.（大可放置4"的基底）載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)）載樣臺(tái)高可加熱溫度為500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C
氣體流量控制器	儀器內(nèi)部安裝有2個(gè)質(zhì)量流量計(jì) 量程為：0-200sccm 氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作
真空泵系統(tǒng)	配有一套分子泵系統(tǒng)（德國(guó)制作），采用一鍵式操作
薄膜測(cè)厚儀	一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
外形尺寸	L1300mm× W660mm× H1200mm
重量	160 kg
質(zhì)保期	一年質(zhì)保期，終生維護(hù)