加工保山高純型二氧化氯發(fā)生器設(shè)備 加工保山高純型二氧化氯發(fā)生器設(shè)備

產(chǎn)品組成： 

    供料系統(tǒng)、反應(yīng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、投加系統(tǒng)、安全防護(hù)系統(tǒng)

反應(yīng)原理：

     △ 5NaCLO2+4HCL→4CLO2+5NaCL+2H2O

使用原料：亞氯酸鈉 （HGAT3250-2001工業(yè)一級(jí)品，含量≥78%）；

       鹽酸 （GB320-2006工業(yè)一級(jí)品，濃度≥31%）

高純型二氧化氯發(fā)生器具有大可能的反應(yīng)效率，采用*的梯度式雙級(jí)反應(yīng)器,所使用反應(yīng)物采用優(yōu)秀濃度，發(fā)生器產(chǎn)物中的二氧化氯占消毒成份的65％以上 

產(chǎn)品性能：

◆以亞氯酸鈉和鹽酸為原料，生產(chǎn)高純二氧化氯消毒劑，二氧化氯純度≥99%，轉(zhuǎn)化率≥95%。

◆反應(yīng)系統(tǒng)密封無(wú)氣體空間設(shè)計(jì)，隔離并加強(qiáng)保護(hù)，加壓與真空相結(jié)合的供料工藝，無(wú)氣體泄漏。

◆設(shè)備內(nèi)部的反應(yīng)器采用耐腐蝕的合成材料，保證設(shè)備使用壽命長(zhǎng)。采用強(qiáng)制混合技術(shù)，確保反應(yīng)全過(guò)程濃度梯度。

◆原料輸送采用進(jìn)口的電磁隔膜計(jì)量泵，運(yùn)行穩(wěn)定、計(jì)量準(zhǔn)確。

◆具有工藝稀釋水缺水、任一原料缺料（選配功能）、動(dòng)力水欠壓自動(dòng)停機(jī)等多種連鎖保護(hù)措施、停電保護(hù)和系統(tǒng)記憶功能。

◆根據(jù)要求可選配不同自動(dòng)化程度的控制系統(tǒng)(PLC單片機(jī)繼電器)，可接收代表流量、余氯的4—20mA標(biāo)準(zhǔn)信號(hào)，并根據(jù)輸入信號(hào)改變?cè)贤都铀俣龋瑢?shí)現(xiàn)開(kāi)環(huán)比例、閉環(huán)自動(dòng)控制投加，可選配RS485通訊接口、硬接線聯(lián)接通訊口，采用PROFIBUS通訊協(xié)議與上位機(jī)進(jìn)行通訊，實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程監(jiān)控

 結(jié)構(gòu)特征及工作原理
    （一） 總體結(jié)構(gòu)及工作原理
    總體結(jié)構(gòu)：發(fā)生器由供料系統(tǒng)、反應(yīng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和安全系統(tǒng)構(gòu)成：發(fā)生器外殼為PVC材料。
    工作原理：由計(jì)量泵將氯酸鈉水溶液與鹽酸溶液輸入到反應(yīng)器中,在一定溫度和負(fù)壓下進(jìn)行充分反應(yīng),產(chǎn)出以二氧化氯為主、lv氣為輔的消du氣體,經(jīng)水射器吸收與水充分混合后形成消毒液后,通入被消毒水中。
    （二） 主要部件功能及工作原理
    （1） 水射器：水射器是根據(jù)射流原理而設(shè)計(jì)的一種抽氣元件,當(dāng)動(dòng)力水經(jīng)過(guò)水射器時(shí),其內(nèi)部產(chǎn)生負(fù)壓,外部氣體在壓差作用下被吸入水射器,從而實(shí)現(xiàn)吸氣。被吸入的二氧化lv氣體在些與混合,形成消毒液,另外,水射器還用于原料罐原料的吸收。
    （2） 計(jì)量泵：輸送原料及調(diào)節(jié)流量。
    （3） 反映器曝氣口〔進(jìn)氣口〕：設(shè)備運(yùn)行時(shí)的空氣通道,安裝時(shí),可連接管道并通到室外,并保持與大氣相通。
    （4） 電接點(diǎn)壓力表：電接點(diǎn)壓力表是保護(hù)設(shè)備安全運(yùn)行的裝置之一,其工作原理是：當(dāng)水射器前端水壓低于設(shè)定值時(shí),該表控制計(jì)量泵停止進(jìn)料。
    （5） 原料液位傳感器：原料液位傳感器也是保護(hù)設(shè)備安全運(yùn)行的裝置之一,它安裝于兩個(gè)原料罐底部,當(dāng)任何一種原料用完時(shí),計(jì)量泵將停止進(jìn)料。
    （6） 溫度控制器：溫度控制器是系統(tǒng)加熱控制機(jī)構(gòu),它保證了氯酸鈉和鹽酸的*化學(xué)反應(yīng)溫度。
    （7） 控制器：控制器是二氧化氯發(fā)生器的控制核心,它完成了系統(tǒng)的整個(gè)自動(dòng)控制。