污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)EFC265
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所 在 地深圳市
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更新時(shí)間:2023-07-25 09:28:22瀏覽次數(shù):435次
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杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除劑
應(yīng)用:
應(yīng)用EKC265™蝕刻后殘留物器廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè),以滿足關(guān)鍵的清潔需求
從高深寬比MEMS器件100μm+ 到*DRAM 的70nm集成的各個(gè)階段
下面列出了常見的應(yīng)用程序:
接觸清潔
金屬線清潔
TSV深硅穿孔清潔
鎢埋位線清洗
聚酰亞胺清洗
Pad清潔
MEMS清洗
特征:
所有蝕刻后鋁清洗的單一解決方案
清洗接觸,金屬,穿孔和Pad
高度選擇性的殘留物去除
去除重有機(jī)殘留物
寬工藝窗口
高產(chǎn)率
穿孔接觸電阻降低
鋁清洗行業(yè)基準(zhǔn)
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主營產(chǎn)品:光學(xué)透鏡和儀器,實(shí)驗(yàn)室器具,專用儀器儀表,電化學(xué)設(shè)備和部件
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