詳細(xì)介紹
工業(yè)發(fā)酵有機(jī)廢氣處理設(shè)備氣體放電等離子體主要分為以下幾種形式:①輝光放電;③介質(zhì)阻擋放電;④射頻放電;⑤微波放電。無論哪一種形式產(chǎn)生的等離子體,都需要高壓放電。容易打火產(chǎn)生危險(xiǎn)。由于對(duì)諸如氣態(tài)污染物的治理,一般要求在常壓下進(jìn)行。
光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機(jī)污染物*氧化成無毒無害的產(chǎn)物,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫。
工業(yè)發(fā)酵有機(jī)廢氣處理設(shè)備
原理:將有臭味地氣體通過煙囪排至大氣,或用無臭空氣稀釋,降低惡臭物質(zhì)濃度以減少臭味。適用范圍:適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優(yōu)點(diǎn):費(fèi)用低、設(shè)備簡(jiǎn)單。缺點(diǎn):易受氣象條件限制,惡臭物質(zhì)依然存在。
利用臭氣中某些物質(zhì)易溶于水的特性,使臭氣成分直接與水接觸,從而溶解于水達(dá)到脫臭目的。適用范圍:水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。優(yōu)點(diǎn):工藝簡(jiǎn)單,管理方便,設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用低 產(chǎn)生二次污染,需對(duì)洗滌液進(jìn)行處理。缺點(diǎn):凈化效率低,應(yīng)與其他技術(shù)聯(lián)合使用,對(duì)硫醇,脂肪酸等處理效果差。
將惡臭物質(zhì)以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中,通過懸浮生長(zhǎng)的微生物降解惡臭物質(zhì) 適用范圍廣。優(yōu)點(diǎn):活性污泥經(jīng)過馴化后,對(duì)不超過極限負(fù)荷量的惡臭成分,去除率可達(dá)99.5%以上。缺點(diǎn):受到曝氣強(qiáng)度的限制,該法的應(yīng)用還有一定局限。
反應(yīng)塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料,填料內(nèi)部復(fù)配多介質(zhì)催化劑。當(dāng)惡臭氣體在引風(fēng)機(jī)的作用下穿過填料層,與通過特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復(fù)配氧化劑在固相填料表面充分接觸,并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下,惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍:適用范圍廣,尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣,對(duì)疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點(diǎn):占地小,投資低,運(yùn)行成本低;管理方便,即開即用。缺點(diǎn):耐沖擊負(fù)荷,不易污染物濃度及溫度變化影響,需消耗一定量的藥劑。
低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的著火電壓時(shí),氣體分子被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。
低溫等離子體空氣凈化設(shè)備能夠顯著治理的污染有:VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵,也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化過程,不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣,不會(huì)導(dǎo)致二次污染。