激光烙鐵凈化氣味設(shè)備激光烙鐵凈化氣味設(shè)備

KN401除味系統(tǒng)凈化原理：

UV光氧催化氧化廢氣處理設(shè)備，對有機揮發(fā)性廢氣，首要進行光解與催化氧化。光解首要是，通過高能UV紫外線對空氣中的氧氣發(fā)作分化作用，推進氧分子分化變成游離態(tài)的氧，因為游離態(tài)氧上的正負電子處于不平衡狀態(tài)，因而游離態(tài)氧極易與氧分子生成臭氧，而臭氧的強氧化作用可以推進有機揮發(fā)性廢氣的分化。在UV高效設(shè)備內(nèi)安裝著紫外線放電管，紫外線放電管發(fā)作的光子能量，可以高達647KJ/mol、742KJ/mol，如此高的光子能，可以迅速裂解小于該能量的有機揮發(fā)性廢氣的分子鍵，使其轉(zhuǎn)變?yōu)闊o機小分子物質(zhì)。

如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、甲二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

2、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。

研討發(fā)現(xiàn)，在紫外光的能量以及納米活性催化氧化作用下，有機揮發(fā)性廢氣在短短2-3秒的時刻內(nèi)就可以被充分分化。光氧催化技能是在外界可見光的作用下發(fā)作催化作用，以半導(dǎo)體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O及其它無毒無害成份，廢臭氣體通過處理后可到達凈化的更理想的作用。因為在光催化氧化反響過程中無任何增加劑，所以不會發(fā)作二次污染，運轉(zhuǎn)本錢方面僅僅用到電能，無需常常替換配件， UV光氧催化氧化廢氣處理設(shè)備對于公司、企業(yè)來說使用上是適當?shù)墓?jié)能環(huán)保。

設(shè)備原理：

   光催化氧化設(shè)備內(nèi)，高能紫外線光束與空氣、TiO2反應(yīng)產(chǎn)生的臭氧、·OH(羥基自由基 )對惡臭氣體（硫化氫、氨氣、硫醇）進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，同時大分子惡臭氣體（硫化氫、氨氣、硫醇）在紫外線作用下使其鏈結(jié)構(gòu)斷裂，使惡臭氣體物質(zhì)轉(zhuǎn)化為無臭味的小分子化合物或者*礦化，生成水和CO2，達標后經(jīng)排風管排入大氣，整個分解氧化過程在1秒內(nèi)完成。