氨逃逸測量方法

    氨注入的過少，就會降低還原轉(zhuǎn)化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導(dǎo)致NH3 逃逸出反應(yīng)區(qū)，逃逸的NH3 會與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應(yīng)生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預(yù)熱器扇面上，會造成嚴(yán)重的設(shè)備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護(hù)費用。在反應(yīng)區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴(yán)重的問題。

氨逃逸測量方法產(chǎn)品概述

    脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)（TK-1100型）是由我公司榮譽出品，本系統(tǒng)包括預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜（DOAS）技術(shù)及可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)；紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過對連續(xù)光譜做算法分析，可同時測量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；激光光譜氣體分析技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用到對于靈敏度、響應(yīng)時間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測領(lǐng)域。

    本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)（TK-1100型）耐用且易于安裝，特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過程氣體排放監(jiān)測，包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。

二、氨逃逸形成及危害

 氨逃逸的危害

（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環(huán)境污染；

（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；

（3）逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結(jié)性）使位于脫銷下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕；

（4）過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導(dǎo)致加氣塊（灰磚）無法銷售；

三、規(guī)格與技術(shù)參數(shù)

四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡介

    本系統(tǒng)的流路主要由測量流路、反吹流路、標(biāo)定流路及渦旋制冷流路組成，具體流路示意圖如下：

    系統(tǒng)進(jìn)入測量狀態(tài)后，電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)帶動兩通球閥切換到采樣氣路，在引流泵的作用下，被測氣體經(jīng)由探頭桿、，兩通球閥、二級過濾器進(jìn)入NH3模塊，NH3模塊利用吸收技術(shù)（TDLAS）對氣體進(jìn)行分析，得到NH3的濃度（高溫?zé)釢穹ǎ?，后排空?/span>

    系統(tǒng)定時會進(jìn)入校準(zhǔn)狀態(tài)進(jìn)行自動調(diào)零，此時兩通球閥切換到校準(zhǔn)氣路，校準(zhǔn)電磁閥打開，在引流泵的作用下，環(huán)境空氣經(jīng)過濾器、校準(zhǔn)電磁閥后進(jìn)入氣體室，對氣體室中殘留的被測氣體進(jìn)行吹掃，吹掃干凈后，對NH3進(jìn)行一次調(diào)零；系統(tǒng)定時會進(jìn)入反吹狀態(tài)對采樣探頭進(jìn)行反吹，此時兩通球閥切換到反吹氣路，反吹電磁閥打開，系統(tǒng)自動控制反吹電磁閥開或關(guān)，實現(xiàn)對探頭過濾器的反吹。

五、氨逃逸系統(tǒng)取樣及機(jī)箱

取樣探頭

    裝置是具有電加熱伴熱功能，能自行加熱并實施溫控的采樣裝置。該裝置適用于高溫、高粉塵濃度的SCR/SNCR裝置入口和出口樣氣的連續(xù)采集。示意圖如下：

結(jié)構(gòu)：裝置由取樣管、探頭法蘭、取樣法蘭管、濾芯、反吹氣罐、反吹電磁閥、探頭保溫罩等組成。

機(jī)箱規(guī)格：

本系統(tǒng)集成于機(jī)箱，具體尺寸如下圖：