南京光催化氧化廢氣處理設(shè)備廠家定制款方法亦需要幾的高溫。
光催化反應(yīng)速率與催化劑特性、體系組成、反應(yīng)物類型等內(nèi)在和外在的許多因素緊密相關(guān)。一般來說,催化劑本身的特性、催化劑表面狀態(tài)、反應(yīng)介質(zhì)條件(PH值、溶劑、電荷大小、空間)、反應(yīng)物類型和濃度、反應(yīng)物的吸附與解吸、氧濃度、光源(波長(zhǎng)、強(qiáng)度)等對(duì)光催化反應(yīng)有決定性行影響,體系中的干擾吸附質(zhì)、負(fù)載光催化劑的材料等對(duì)反應(yīng)液有重要影響。
1、催化劑的活性
TiO2光催化劑的催化活性在很大程度上影響光催化反應(yīng)速率,而TiO2光催化活性主要受TiO2的晶型和粒徑的影響,銳鈦型TiO2的催化活性高,隨著粒徑的減小,電子與空穴簡(jiǎn)單復(fù)合的概率降低,光催化活性增大。另外,孔隙率、平均孔徑、粒子表面狀態(tài)、純度等對(duì)其光催化活性也均有一定影響。
為了提高光降解效率,對(duì)TiO2光催化劑進(jìn)行改性。如研制納米TiO2,制備TiO2的復(fù)合半導(dǎo)體,金屬離子摻雜、染料光敏化等。也可以采用各種手段制備TiO2催化劑,以提高光催化劑的活性,如下是兩種制備負(fù)載TiO2顆粒的方法:
笫一種方法是先將鈦醇鹽溶于醇溶劑中,加入水和造孔劑炭黑配成涂覆漿料,以浸提法涂在基板上,經(jīng)過多次梯度焙燒后.獲得在基板上附著一層多孔的TiO2光催化薄膜,對(duì)水和空氣中的有機(jī)污染物有良好的催化降解率。
另一種方法是將載體進(jìn)行清潔處理,然后送入真空壓力小于或等于5.0*103Ph,設(shè)置純金屬鈦靶的真空設(shè)備中,利用中頻交流磁控濺射純鈦靶。純金屬鈦靶材和氧氣在磁控濺射的條件下在載體上直接生成TiO2光催化薄膜。其制備的TiO2光催化薄膜可由單一銳鈦礦相組成或是由單一金紅石相組成,或是兩者的混合相組成。
(2)底物反應(yīng)體系
有機(jī)物所處的反應(yīng)體系復(fù)雜,反應(yīng)物的初始濃度及性質(zhì)、溶液屮的離子、氧化劑及pH值等因素共同影響有機(jī)物的光催化降解。
底物的起始濃度和類型:在低濃度下反應(yīng)速率與有機(jī)物濃度成正比。隨著濃度的升高,反應(yīng)速率與濃度不再呈線性關(guān)系。而在某一高濃度范圍反應(yīng)速率與濃度無關(guān)。底物的不同結(jié)構(gòu)影響降解速率。
離子:反應(yīng)體系的陰陽(yáng)離子對(duì)光催化降解有機(jī)物的影響很復(fù)雜。它與離子的種類可能存在的競(jìng)爭(zhēng)性吸附和競(jìng)爭(zhēng)性反應(yīng),電子空穴復(fù)合中心的增減以及反應(yīng)條件等有關(guān)。
氧化劑和體系PH值:反應(yīng)體系加入氧化劑后,催化劑表面電子被氧化劑俘獲,降低了空穴與電子的復(fù)合率,促使了OH的生成。氧化劑的作用受其加入濃度的影響,PH值影響OH在光催化劑表面的吸附。此外,反應(yīng)物的結(jié)構(gòu)不同,對(duì)光催化劑表面--OH的吸附力不同,從而導(dǎo)致不同的反應(yīng)物降解適宜的初始PH值不同。
(3)溫度和光強(qiáng)
光催化反應(yīng)的表現(xiàn)活化能很低,溫度對(duì)反應(yīng)速率影響不明顯,300-400nm的弱紫外光就能提供電子空穴分離所需的能量,低光密度下,光降解率隨著紫外光的光強(qiáng)增大而線性增大,中光密度下光催化降解與光強(qiáng)的平方根成正比,而高光密度下主要受質(zhì)子轉(zhuǎn)移條件控制,光強(qiáng)無多大影響,TiO2只可以吸收太陽(yáng)光中弱紫外部分。
南京光催化氧化廢氣處理設(shè)備廠家定制款
光催化氧化還原以n型半導(dǎo)體為催化劑,如TiO2、ZnO、Fe2O3、SnO2、WO3等。TiO2由于化學(xué)性質(zhì)和光化學(xué)性質(zhì)均十分穩(wěn)定,且無毒價(jià)廉,貨源充分,所以光催化氧化還原去除污染物通常以TiO2作為光催化劑。光催化劑氧化還原機(jī)理主要是催化劑受光照射,吸收光能,發(fā)生電子躍遷,生成“電子—空穴”對(duì),對(duì)吸附于表面的污染物,直接進(jìn)行氧化還原,或氧化表面吸附的羥基OH-,生成強(qiáng)氧化性的羥基自由基OH將污染物氧化。
當(dāng)用光照射半導(dǎo)體光催化劑時(shí),如果光子的能量高于半導(dǎo)體的禁帶寬度,則半導(dǎo)體的價(jià)帶電子從價(jià)帶躍遷到導(dǎo)帶,產(chǎn)生光致電子和空穴。如半導(dǎo)體TiO2的禁帶寬度為312eV,當(dāng)光子波長(zhǎng)小于385nm時(shí),電子就發(fā)生躍遷,產(chǎn)生光致電子和空穴(TiO2+hν→e-+h+)。
對(duì)半導(dǎo)體光催化反應(yīng)的機(jī)理,不同的研究者對(duì)同一現(xiàn)象也提出了不同的解釋。氘同位素試驗(yàn)和電子順磁共振(ESR)研究均已證明,水溶液中光催化氧化反應(yīng)主要是通過羥基自由基(·OH)反應(yīng)進(jìn)行的,·OH是一種氧化性很強(qiáng)的活性物質(zhì)。水溶液中的OH-、水分子及有機(jī)物均可以充當(dāng)光致空穴的俘獲劑,具體的反應(yīng)機(jī)理[2]如下(以TiO2為例):
TiO2+hν→h++e-
h++e-→熱量
H2O→OH-+H+
h++OH-→OH
h++H2O+O2-→·OH+H++O2-
h++H2O→·OH+H+
e-+O2→O2-
O2-+H+→HO2·
2HO2·→O2+H2O2
H2O2+O2-→OH+OH-+O2
H2O2+hν→2OH
Mn+(金屬離子)+ne+→M
2提高光催化利用效率的方法
在對(duì)光催化氧化反應(yīng)機(jī)理的認(rèn)識(shí)基礎(chǔ)上,研究者提出了一系列提高光催化利用效率的方法[3]。
2.1納米光催化劑TiO2的應(yīng)用
在光催化反應(yīng)中,催化劑表面的OH-基團(tuán)的數(shù)目將直接影響催化效果。TiO2浸入水溶液中,表面要經(jīng)歷羥基化過程。晶粒尺寸越小,粒子中原子數(shù)目也相應(yīng)減少,表面原子比例增大,表面OH-基團(tuán)的數(shù)目也隨之增加,從而提高反應(yīng)效率。
由于量子效應(yīng),近年來,新的研究方向就是研制納米半導(dǎo)體材料—納米光催化劑。納米光催化材料比一般光催化材料在促進(jìn)光催化反應(yīng)的活性作用上,主要體現(xiàn)在2個(gè)方面。
- 工業(yè)廢氣處理設(shè)備
-
甲苯廢氣處理 甲醛甲醇廢氣處理 噴漆廢氣處理 制藥廢氣處理 危廢儲(chǔ)存車間廢氣處理 電子廠廢氣處理 污水池廢氣處理 甲醇廢氣處理 制藥廠廢氣處理 屠宰廠廢氣處理設(shè)備 熱處理廢氣處理 機(jī)電廠廢氣處理 化肥廠廢氣處理 鍛造粉塵廢氣處理設(shè)備 印染廢氣處理 烘箱廢氣處理 植絨廠廢氣處理 印刷廢氣處理 電鍍廢氣處理 酸洗廢氣處理 鑄造廢氣處理 化工廢氣處理 烘烤廢氣處理 注塑廢氣處理設(shè)備 塑料造粒廢氣處理 印刷車間廢氣處理 煙塵廢氣處理 氨氣廢氣處理 乙醇廢氣處理 紡織廢氣處理 醫(yī)藥廢氣處理 注塑機(jī)廢氣處理 石油廢氣處理 皮革廢氣處理 瀝青廢氣處理 垃圾廢氣處理 食品廠廢氣處理 橡膠廢氣處理 壓鑄廢氣處理設(shè)備 定型機(jī)廢氣處理設(shè)備 涂布機(jī)廢氣處理設(shè)備 香料廠廢氣處理 工業(yè)廢氣處理設(shè)備 塑料廠廢氣處理設(shè)備 烤漆房廢氣處理設(shè)備 鑄造廠車間粉塵處理 電子車間廢氣處理 汽車烤漆房廢氣處理 電鍍廠廢氣處理設(shè)備 涂裝車間廢氣處理設(shè)備 熱水鍋爐廢氣處理設(shè)備 機(jī)械制造業(yè)廢氣處理設(shè)備 印染紡織廢氣處理 注塑車間廢氣處理 醫(yī)藥加工廢氣處理 有機(jī)廢氣處理設(shè)備
- 廢氣處理設(shè)備
-
光氧活性炭一體機(jī) 玻璃鋼廢氣洗滌塔 蒸汽脫附冷凝回收設(shè)備 等離子UV光解一體機(jī) 玻璃鋼廢氣處理設(shè)備 催化燃燒設(shè)備 玻璃鋼廢氣凈化塔 不銹鋼玻璃鋼噴淋塔 活性炭吸附塔 焚燒煙氣處理設(shè)備 酸霧凈化塔設(shè)備 廢氣處理噴淋塔 印刷廠油墨廢氣處理 有機(jī)廢氣處理 高濃度廢氣處理 等離子凈化裝置 光催化氧化廢氣處理 催化燃燒冷凝回收系統(tǒng) 酸堿廢氣處理 吸附脫附催化燃燒 玻璃鋼凈化塔 空氣處理設(shè)備 蓄熱式焚燒凈化RTO裝置 光氧催化燃燒設(shè)備 噴淋塔設(shè)備 洗滌塔設(shè)備 等離子凈化設(shè)備