一、概 述　

　　DL-HCL回程式離子交換器是采用處理水與再生液均為上進(jìn)上出；再生液流向與設(shè)備運(yùn)行時(shí)水的流向相反的逆流再生工藝。本設(shè)備設(shè)計(jì)*合理，工藝成熟，具有工作交換容量大、周期制水量大、出水質(zhì)量高、再生劑耗量低、節(jié)能效果好、交換劑不會(huì)亂層、設(shè)備占有空間小(新設(shè)備比老設(shè)備高度低1.5-2.0m)等優(yōu)點(diǎn)。

　　由于回程式離子交換器內(nèi)樹脂有效層和保護(hù)層被有效地隔開，互相無易位的可能，成功地解決了*以來沒有解決的逆流再生交換劑亂層問題。它不用任何壓頂措施，而且對(duì)于交換與再生流速無嚴(yán)格限制，所以操作特別簡(jiǎn)單，容易掌握。

　　該設(shè)備處理水和再生液均采取上進(jìn)上出，水與再生液夾帶懸浮物不易積壓在樹脂底部，容易清洗，省時(shí)省水。DL-HCL回程式離子交換器

　二、用途和運(yùn)用示例　

　　回程式離子交換器根據(jù)水處理工藝要求，分別填裝強(qiáng)型或弱型的陽(陰)離子交換樹脂，組成不同的水處理設(shè)備。

　　該設(shè)備用途：N a床離子交換器可降低原水的硬度，用于水的軟化；H床、N a床并聯(lián)或串聯(lián)可使原水軟化和脫堿；H床、OH床組合可除去原水中各種鹽類，獲得高純度的脫鹽水。各種水處理流程可達(dá)到多種多樣的水質(zhì)要求，滿足工業(yè)鍋爐、電站鍋爐、紡織、印染、電鍍、冷卻、飲料等各種用水的要求。

　　各種水處理系統(tǒng)運(yùn)用示例

　三、操作工藝　

1、交換：原水由1進(jìn)入至2流出，其流速自選，一般為20-25m/h。

2、小反洗：由3進(jìn)入至4排出，其時(shí)間為5-10min。

3、再生：再生液由5進(jìn)入至4排出，其流速自選，一般為3-5m/h。

4、正洗：清水由1進(jìn)入至6排出，其流速自選，一般為10-15m/h，排至出水合格為止。

　　一般逆流再生固定床的大反洗和浮動(dòng)床的體外擦洗在本設(shè)備上不必進(jìn)行，因?yàn)楸驹O(shè)備床底部不會(huì)積存污物，在交換和再生液的推動(dòng)作用下，樹脂層可以在兩個(gè)方向上推動(dòng)，使其阻力得到調(diào)整。

　四、操作特點(diǎn)　

1、交換：原水從上部進(jìn)水裝置進(jìn)入，經(jīng)過樹脂層交換后，從另一側(cè)上部出水裝置流出，水的交換流速可以自選，流速快慢不會(huì)攪亂床層。

2、小反洗：反洗從清水裝置進(jìn)入，向上清洗表層，將懸浮物沖起，從上部進(jìn)水裝置流出。

3、再生：再生液從上部出水裝置進(jìn)入，經(jīng)過樹脂層進(jìn)行再生后，從另一側(cè)上部進(jìn)水裝置流出，再生液流速可以自選，樹脂層不會(huì)被攪亂，再生劑消耗低，再生時(shí)間短。

4、正洗：正洗是原水從上部進(jìn)水裝置進(jìn)入，經(jīng)過樹脂層從另一側(cè)上部出水裝置排出，正洗流速自選，快慢均可，不會(huì)攪亂床層。

　五、技術(shù)數(shù)據(jù)　

(一)主要技術(shù)參數(shù)