1)電弧熔煉室：立式圓筒型真空室。

2)冷態(tài)極限真空度：≤6.7x10-4 Pa.

3)熔煉電流：額定電流1000 A.

4)設(shè)備加熱溫度：3500~4000℃.

5）熔煉堝有五個(gè)工位，三個(gè)熔煉合金工位（一個(gè)帶電磁攪拌），一個(gè)熔煉除氣工位，一個(gè)吸鑄工位。

6)熔煉樣品重量（以鐵標(biāo)定）：1x500克，1x200克，1x100克。

7)熔煉除氣工位（以鐵標(biāo)定）：1X80克。

8)吸鑄工位（以鐵標(biāo)定）：1x80克

9)電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻和接觸式引弧。

非自耗真空電弧爐是利用等離子體的高溫、高能量和高活性進(jìn)行金屬材料的熔煉和自然晶體生長。真空電弧加熱方式使用射頻(RF)發(fā)生器產(chǎn)生高頻應(yīng)用場來引導(dǎo)鋁箔放電，形成電弧及其等離子體。當(dāng)鋁箔被加熱到其熔點(diǎn)以上時(shí)，它流動到集合內(nèi)靜電場所達(dá)到的垂直表面之上，隨即由于放電中所釋放的熱量再次熔融。