半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn)）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。 
    新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥16MΩ.CM）(工藝) 
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(工藝) 
半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備應(yīng)用場合：
    ☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 
    ☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水 
    ☆ 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水 
    ☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液 
    ☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制 
    ☆ 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片 
    ☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路
    ☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏 
    ☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn) 
    ☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗 
    ☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料 
    ☆實驗室和中試車間 
    ☆汽車、家電表面拋光處理 
    ☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品