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雙盤磨拋機(jī)

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更新時(shí)間:2024-10-05 08:04:34瀏覽次數(shù):44

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品特點(diǎn):8(203mm)鋁制底盤雙盤拋光機(jī),連兩個(gè)8(203mm)尼龍底盤及兩個(gè)固定環(huán)

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品特點(diǎn):

8"(203mm)鋁制底盤

雙盤拋光機(jī),連兩個(gè) 8"(203mm) 尼龍底盤及兩個(gè)固定環(huán)。轉(zhuǎn)速約 50 -500rpm,並備有轉(zhuǎn)速顯示屏。

在底盤的附近設(shè)有可彎曲軟管,出/入水管接駁口設(shè)置在儀器的背面,並附有開關(guān)龍頭,可直接將水沖向樣品,對(duì)研磨工序十分有幫助。

技術(shù)規(guī)格:

馬達(dá)驅(qū)動(dòng)

無極變速:1HP (0.75kW) 的馬達(dá)和控制器

底盤支持

快速更換底盤系統(tǒng)

底盤尺寸

兩個(gè)直徑為8"(203mm)鋁制底盤

潤滑方式

水的入口和出口在后面板,配備了軟管的水龍頭,可將水輸送到研磨盤的任意地方。

電子學(xué)

CW順時(shí)和CCW逆時(shí)兩個(gè)方向旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0-500rpm配合EZ-DRO調(diào)整

規(guī)格大小

寬度

25 1/2" (650 mm)

深度

24" (610mm) (add 1" (30mm) 后面板的進(jìn)出水口

高度

11" (280mm)

重量

70 lbs. (32Kg)

訂購指南:

型號(hào)

描述

E-10248

Labpol Duo 8雙盤磨拋機(jī)

E-10204

Labpol Duo 8雙盤磨拋機(jī)防護(hù)蓋

E-10206

8"(203mm)鋁制底盤防護(hù)裝置

E-10218

8"(203mm)鋁制底盤

E-10249

230mm砂紙固定環(huán)

關(guān)于磨拋的精細(xì)程度與砂紙,絨布,研磨拋光料息息相關(guān),請(qǐng)與我們銷售工程師聯(lián)系獲得Z佳的配置清單。

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