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CWES-UET電解水處理

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更新時間:2024-02-06 15:38:53瀏覽次數:188

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產品簡介

一個系統(tǒng),多個功能同時具有殺菌滅藻、緩蝕阻垢、高效過濾功能,解決循環(huán)水系統(tǒng)面臨的生物污染和腐蝕結垢問題。少化學藥劑,提高濃縮倍數,環(huán)境友好型水處理技術。

詳細介紹

立項支持的節(jié)水減排技術,   相關技術受國家保護

號:ZL.8,ZL.7ZL.5.



型號:CWES-UET025

工作壓力:1.0MPa

處理流量:25m3/h

控制:PLC控制

1特點

電解是在外部電流作用下一個電子導體(特種金屬制成的電極)和一個離子導體(水中的電解質)之間發(fā)生的系列化學反應。

電解制造了一個氧化反應和還原反應分別進行的環(huán)境。

電解過程可以控制和測量,從而可以精確預知處理后水的水質。

減少化學藥劑使用,降低藥劑成本,降低污染。

環(huán)境友好。

處理效果不隨被處理水的條件或組成而發(fā)生變化。

CWES-UET優(yōu)勢


減少停車時間
安全性和環(huán)境利益

防治水垢
顯著節(jié)約用水

控制細菌包括軍團菌和藻類滋生 
不會有員工暴露于危險化學品嘗

防止腐蝕 
很少有化學藥劑排放到環(huán)境中

不會在水中形成污染物 
沒有藥劑或者包裝拋棄問題 





節(jié)省主要費用
的服務和操作

減少排污費 
維護和服務都由當地公司來完成

大大減少藥劑費用或者其它供應費用 
自動操作系統(tǒng)

維護量最小化的簡潔系統(tǒng) 
受約束的許可和規(guī)章制度最少

微電腦監(jiān)控和自動排污控制 
無需藥劑添加系統(tǒng)(泵、閥門等)

動力和雇員培訓費用最小化 
無需軟化水

3材質與防腐

反應室殼體:涂襯環(huán)氧樹脂的碳鋼

管道:內外涂襯環(huán)氧防腐的碳鋼管道

閥門:鑄鐵、PVC

控制單元:黃銅、不銹鋼、PVC

密封圈:橡膠EPDM

反應室殼體和管道均進行了嚴格的防腐處理。設備表面處理過程為:焊縫打磨整齊、噴砂至金屬本色、吹干燥壓縮空氣、去油,涂襯環(huán)氧樹脂粉,送入溫度高達200℃的高溫烤箱烘烤40分鐘,最后包裝。環(huán)氧厚度達130微米,漆層堅固、耐磨損,確保設備使用壽命


CWES-UET025系統(tǒng)包含:淺層介質過濾器1臺;電解預結垢單元1個。

在本項目中,采用循環(huán)水旁流處理方式。如下圖所示。

安裝圖一

 image.png

 

安裝圖二

 image.png

循環(huán)水電解系統(tǒng)安裝在冷卻塔旁的循環(huán)水回水處,依靠回水壓力進行過濾和自動反沖洗,屬于的一種旁路安裝方式。這種方式對回水壓力有要求,一般要求大于0.2 MPa

4.CWES電解殺菌除垢的工作機理

CWES電解殺菌除垢系統(tǒng)要求循環(huán)水流過CWES反應室,以便拿掉適當的鈣鎂離子礦物質和殺死細菌。在反應室中發(fā)生的這種實際的化學反應,不同于任何一種其他的機械式和電磁式的處理方式。

1 陰極化學反應

通過電解,水中的礦物質沉淀出來并被去除,這就是CWES的工作原理。反應室中維持的工作電流大概為直流725安培。結果是,在陰極(反應室內壁)附近形成高濃度的氫氧根,這種升高的pH環(huán)境(pH大約為13),讓易結垢的礦物質預先結垢,并從水中析出。實際上,陰極附近局部的高氫氧根濃度形成的化學環(huán)境,和用石灰處理形成的冷石灰軟化環(huán)境類似,主要用來去除水中的鈣、鎂離子。

image.png

電流也將一部分的氯離子轉化成游離氯,同時產生微量臭氧、氧自由基、氫氧根自由基和雙氧水。這一系列產物提供了殺生效應,結合安培電流及局部高的和低的(陽極)pH區(qū)域,維持了CWES之外的一個事實上的消毒環(huán)境。

2 陽極化學反應


反應室本身是一個碳鋼制造的圓柱狀的容器。固定在碳鋼蓋子上有兩個陽極和一個電動刮刀。陽極柱直徑大約為
1英寸,直伸到容器底部。電極用特殊鈦鎳氧化物制成,以便耐受局部低pH環(huán)境?;@式塑料刮刀每次清洗時用來擦掉內壁預沉淀出來的礦物質。 

 

image.png



3殺菌原理

由上可知,陰極和陽極的化學反應,配合特別的流量設計,反復地將細菌暴露于破壞性的環(huán)境中,每次流經反應室就會暴露在和極低的pH、電流、和其它幾種氧化消毒環(huán)境之中。

CWES環(huán)境:

CWES以旁流的方式安裝,也就是說,大約5%循環(huán)取出來經過CWES處理后再回到系統(tǒng)中去。旁流量設計時基于系統(tǒng)中所有的循環(huán)水量每天經過CWES系統(tǒng)大約1-2次。因此,相對于保有水量2000方,每個來自空氣中或者水中懸浮物里的細菌,都會在24小時之內經過苛刻的CWES環(huán)境大約2-3,從而達到抑制、殺滅細菌的功效。

pH值作用:

微生物對多種突然的環(huán)境變化很敏感。其中一個尤其敏感的參數是pH值(水的酸度或者堿度變化)。實際上,水的pH值哪怕簡單地改變很少幾個單位,就能夠事實上消除某些微生物的生長。如前所述,陰極附近會形成高濃度的氫氧根,從而在反應室內壁附近造成的堿性環(huán)境,pH值達到13。相反,在陽極附近,一直維持著低pH的酸性環(huán)境。

由于寄生在冷卻水懸浮物上面的細菌適應了輕微弱堿性環(huán)境,pH值在8.59.0之間。這個pH值是使用CWES處理冷卻循環(huán)水時控制的范圍。于是,因為冷卻水進入和離開反應室,不斷地循環(huán)就會反復將細菌置于低pH值區(qū)和高pH值區(qū)。結果就是細菌每次通過反應室時都經歷了多次變化的pH值環(huán)境。

電流作用:

CWES在反應室中維持大約20~35安培15~30伏特的直流電流。因此,細菌每次經過反應室時都會暴露在該電流中,會電解而死。

產生氯氣、臭氧和氧自由基:

由于陰極發(fā)生的化學反應,流經反應室的氯離子中約10%~30%的氯離子轉化成游離氯,因此循環(huán)水中余氯維持一個穩(wěn)定的數量,約0.1~0.5ppm。這個余氯,就像向水中添加漂白粉一樣,通過氧化作用殺死細菌。同時,在陰極還產生了臭氧和氧自由基,這兩個氧化性物質,和氯類似,具有殺生劑的作用。

4工作過程

電解除垢器工作時,進水閥門、出水閥門打開,原水從進水閥門進入,在反應室內進行電解殺菌電化學作用,讓易結垢的礦物質預先結垢,并從水中析出,并附著在反應室內壁(陰極)上。因反應有微量氫氣產生,該水垢為疏松的水垢。


當內壁上的水垢積累到一定的量需要對其進行清洗,清洗周期和清洗時間取決于每天要去除的礦物質量。


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