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武漢科思特儀器股份有限公司

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CS350M電化學(xué)工作站

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更新時(shí)間:2022-07-08 10:42:10瀏覽次數(shù):383次

聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線
CS電化學(xué)工作站采用全浮地式設(shè)計(jì),具有出色的穩(wěn)定性和精確度,*的硬件和功能完善的軟件,為涉及能源、材料、生命科學(xué)、環(huán)保等領(lǐng)域的科技工作者提供了優(yōu)秀的科研平臺(tái)。
 
CS電化學(xué)工作站采用全浮地式設(shè)計(jì),具有出色的穩(wěn)定性和精確度,*的硬件和功能完善的軟件,為涉及能源、材料、生命科學(xué)、環(huán)保等領(lǐng)域的科技工作者提供了優(yōu)秀的科研平臺(tái)。
應(yīng)用
(1)
能源材料(鋰離子電池、太陽(yáng)能電池、燃料動(dòng)力電池和超級(jí)電容器等)、*功能材料以及傳感器的性能研究;
(2)電化學(xué)分析研究;
(3)
電合成、電沉積(電鍍)、陽(yáng)極氧化、電解等反應(yīng)機(jī)理研究;
(4)金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評(píng)價(jià);
(5)緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率的快速評(píng)價(jià)。

硬件特點(diǎn)

● 雙通道相關(guān)分析器和雙通道高速16bit /高精度24bit AD轉(zhuǎn)換器
● 內(nèi)置FRA頻響分析儀,頻率范圍 10μHz ~1MHz
● 高帶寬高輸入阻抗的放大器

● 內(nèi)置FPGA DDS信號(hào)合成器
● 高功率恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計(jì)
● 電壓控制范圍:±10V,槽壓為±21V
● 電流控制范圍:±2.0A
● 電位分辨率:10μV,電流分辨率:1pA(可延伸至100fA)



軟件特點(diǎn)
① 數(shù)據(jù)分析
伏安曲線的平滑、積分和微分運(yùn)算,計(jì)算各氧化還原峰的峰電流、峰電位和峰面積等;
極化曲線的三參數(shù)或四參數(shù)動(dòng)力學(xué)解析,計(jì)算Tafel斜率ba,bc,腐蝕電流密度icorr,極限擴(kuò)散電流、極化電阻Rp和腐蝕速率等,還可由電化學(xué)噪聲譜計(jì)算功率譜密度、噪聲電阻Rn和譜噪聲電阻Rsn(f)。
② 實(shí)時(shí)存儲(chǔ)
CS Studio實(shí)時(shí)存儲(chǔ)測(cè)量數(shù)據(jù),即使因斷電導(dǎo)致測(cè)試中斷,中斷之前的數(shù)據(jù)也會(huì)自動(dòng)保存。
③ 定時(shí)測(cè)量
CS Studio測(cè)試軟件具有定時(shí)測(cè)量功能, 對(duì)于某些需要研究體系隨時(shí)間變化特征時(shí),可提前設(shè)好測(cè)試參數(shù)與間隔時(shí)間,讓儀器在無人值守下自動(dòng)定時(shí)測(cè)量,為實(shí)驗(yàn)提供方便。
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
① 交流阻抗
儀器采用相關(guān)積分算法和雙通道同步過采樣技術(shù),具有較強(qiáng)的抗力,尤其適合于涂層、混凝土等高阻體系(>109Ω)的交流阻抗測(cè)量,也可用于Mott-Schottky 曲線和微分電容曲線繪制。軟件能實(shí)時(shí)顯示開路電位,用戶無需輸入,即可輸出準(zhǔn)確的極化過電位。
具有恒流阻抗測(cè)試功能,尤其適合于18650、軟包電池等
超低阻儲(chǔ)能器件的交流阻抗測(cè)量。
② 極化曲線
具有線性極化和Tafel極化曲線測(cè)量功能,用戶可設(shè)定循環(huán)極化曲線的陽(yáng)極回掃電流(鈍化膜擊穿電流),來確定材料的點(diǎn)蝕電位和保護(hù)電位,評(píng)價(jià)晶間腐蝕敏感性。軟件采用非線性擬合算法解析極化曲線,可用于材料耐蝕性和緩蝕劑性能的快速評(píng)價(jià)。
6063鋁合金在含Ce3+的3% NaCl溶液中的EIS 鈦基非晶態(tài)合金和不銹鋼在3%NaCl溶液中的極化曲線
③ 伏安分析
能完成線性掃描伏安(LSV)、循環(huán)伏安(CV)、階梯伏安(SCV)、方波伏安(SWV)、差分脈沖伏安(DPV)、交流伏安(ACV)、溶出伏安等多種電分析方法,集成峰面積、峰電流計(jì)算和標(biāo)準(zhǔn)曲線分析功能。
聚吡咯超級(jí)電容器 在0.5 mol/L H2SO4溶液中的CV曲線 鉑電極在 K4[Fe(CN)6]+ KCl溶液中的CV 曲線
④ 電化學(xué)噪聲
采用高阻跟隨器和零阻電流計(jì)測(cè)量腐蝕體系自發(fā)的電位與 電流波動(dòng),可用于點(diǎn)蝕、電偶腐蝕、縫隙腐蝕和應(yīng)力腐蝕開裂 等局部腐蝕研究。通過噪聲譜分析,可評(píng)估亞穩(wěn)態(tài)蝕點(diǎn)或裂紋的誘導(dǎo)、生長(zhǎng)和死亡過程?;谠肼曤娮韬忘c(diǎn)蝕指數(shù)計(jì)算,也可用于局部腐蝕監(jiān)測(cè)。
全浮地測(cè)量
CS系列電化學(xué)工作站采用全浮地式工作電極,可用于工作電極本身接地體系的電化學(xué)研究,如用于高壓釜電化學(xué)測(cè)試(釜體接地),大地中金屬構(gòu)件(橋梁、混凝土鋼筋)的在線腐蝕研究等。
正反饋IR補(bǔ)償
啟動(dòng)IR補(bǔ)償后,電化學(xué)工作站會(huì)增加一個(gè)額外模擬反饋路徑,通過測(cè)量電解池電流,啟用正反饋補(bǔ)償,硬件電路增加反饋信號(hào),自動(dòng)對(duì)Rs上的壓降進(jìn)行補(bǔ)償。
自定義方法
支持用戶自定義組合測(cè)量,用戶可以設(shè)定定時(shí)循環(huán)進(jìn)行某一測(cè)試方法或多種方法的組合測(cè)試,用于無人值守下的定時(shí)自動(dòng)測(cè)量;
提供API通用接口函數(shù)和開發(fā)實(shí)例,方便用戶二次開發(fā)和自定義測(cè)試方法;
提供用戶自定義腳本編寫范例,用于實(shí)現(xiàn)您*的電化學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)。
硬件參數(shù)指標(biāo)
恒電位控制范圍:±10V 恒電流控制范圍:±2.0A
電位控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV 電流控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)
電位靈敏度:10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) 電流靈敏度:1pA
電位上升時(shí)間:﹤1μS(<10mA),<10μS(<2A) 電流量程:2nA~2A, 共10檔
參比電極輸入阻抗:1012Ω||20pF 輸出電流:2.0A
槽壓輸出:±21V 電流掃描增量:1mA @1A/mS
CV和LSV掃描速度:0.001mV~10000V/s 電位掃描電位增量:0.076mV @1V/mS
CA和CC脈沖寬度:0.0001~65000s DPV和NPV脈沖寬度:0.0001~1000s
SWV頻率:0.001~100KHz CV的最小電位增量:0.020mV
AD數(shù)據(jù)采集:16bit@3.6MHz,20bit @1KHz 電流與電位量程:自動(dòng)設(shè)置
DA分辨率:16bit,建立時(shí)間:1μS 低通濾波器 :8段可編程
通訊接口:USB2.0、RJ45網(wǎng)口 儀器重量:7.6Kg
外形尺寸(cm):36.4(W)*32.0(D)*13.8(H)

電化學(xué)阻抗測(cè)量指標(biāo)
信號(hào)發(fā)生器
頻率響應(yīng):10μHz~1MHz 交流信號(hào)幅值:1mV~2500mV
頻率精確度:0.005% 信號(hào)分辨率:0.1mV RMS
DDS輸出阻抗:50Ω 直流偏壓:-10V~+10V
正弦波失真率:<1% 波形:正弦波,三角波,方波
掃描方式:對(duì)數(shù)/線性,增加/下降
信號(hào)分析器
積分時(shí)間:106個(gè)循環(huán)或者105S 測(cè)量時(shí)間延遲:0~105
最小積分時(shí)間:10mS 或者一個(gè)循環(huán)的最長(zhǎng)時(shí)間
直流偏置補(bǔ)償
電位補(bǔ)償范圍:-10V~+10V 電流補(bǔ)償范圍:-1A~+1A
帶寬調(diào)整:自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置, 共8級(jí)可調(diào)
配置
1)儀器主機(jī)1臺(tái)
2) CS Studio測(cè)試與分析軟件1套
3)模擬電解池1個(gè)
4)電源線/USB數(shù)據(jù)線各1條
5)電極電纜線1條

6)電腦(選配*)

CS單通道系列不同型號(hào)功能方法比較
功能方法CS150MCS300MCS310MCS350M
穩(wěn)態(tài)極化 開路電位(OCP)
恒電位極化(i-t曲線)
恒電流極化
動(dòng)電位掃描(Tafel曲線)
動(dòng)電流掃描(DGP)
電位掃描-階躍
暫態(tài)極化 任意恒電位階梯波
任意恒電流階梯波
恒電位階躍(VSTEP)
恒電流階躍(ISTEP)
計(jì)時(shí)分析 計(jì)時(shí)電位法(CP)
計(jì)時(shí)電流法(CA)
計(jì)時(shí)電量法(CC)
伏安分析 線性掃描伏安(LSV)
線性循環(huán)伏安(CV)
階梯循環(huán)伏安(SCV)
方波伏安(SWV)
差分脈沖伏安(DPV)
常規(guī)脈沖伏安(NPV)
差分常規(guī)脈沖伏安(DNPV)
交流伏安(ACV)
二次諧波交流伏安(SHACV)
傅里葉變換交流伏安(FTACV)
電流檢測(cè) 差分脈沖電流檢測(cè)(DPA)
雙差分脈沖電流檢測(cè)(DDPA)
三脈沖電流檢測(cè)(TPA)
積分脈沖電流檢測(cè)(IPAD)
溶出伏安 電位溶出分析(PSA)
線性掃描溶出伏安(LSSV)
階梯溶出伏安(SCSV)
方波溶出伏安(SWSV)
差分脈沖溶出伏安(DPSV)
常規(guī)脈沖溶出伏安(NPSV)
差分常規(guī)脈沖溶出伏安(DNPSV)
交流阻抗 阻抗-頻率掃描
阻抗-時(shí)間掃描
阻抗-電位掃描(Mott-Schottky 曲線)
恒電流阻抗測(cè)試
充放電測(cè)試 電池充放電
恒電流充放電(GCD)
恒電位充放電
恒電位間歇滴定技術(shù)(PITT)
恒電流間歇滴定技術(shù)(GITT)
雙恒測(cè)量 氫擴(kuò)散測(cè)試(HDT)
盤環(huán)電極測(cè)試
擴(kuò)展測(cè)量 電化學(xué)噪聲(EN)
電偶腐蝕測(cè)量(ZRA)
電化學(xué)溶解/沉積
控制電位電解庫(kù)倫法(BE)
動(dòng)電位再活化法(EPR)
溶液電阻測(cè)量
循環(huán)極化曲線(CPP)
注:*氫擴(kuò)散及旋轉(zhuǎn)盤環(huán)電極測(cè)試需配置CS1002恒電位/恒電流儀或采用CS2350H雙恒電位儀。
*產(chǎn)品3年質(zhì)保。

CS300X系列全功能電化學(xué)工作站

CS電化學(xué)工作站采用全浮地式設(shè)計(jì),具有出色的穩(wěn)定性和精確度,*的硬件和

CS310X系列多通道電化學(xué)工作站

CS電化學(xué)工作站采用全浮地式設(shè)計(jì),具有出色的穩(wěn)定性和精確度,*的硬件和

CS2150H雙恒電位儀

CS2150H雙恒電位儀功能方法 穩(wěn)態(tài)極化 開路電位測(cè)量(OCP)、恒

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