SWC-4000單晶圓兆聲清洗機(jī)應(yīng)用：

• 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
• Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
• CMP處理后的晶圓片清洗
• 晶圓框架上的切粒芯片清洗
• 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
• 帶保護(hù)膜的分劃版清洗
• 掩模版空白部位或接觸部位清洗
• X射線及極紫外掩模版清洗
• 光學(xué)鏡頭清洗
• ITO涂覆的顯示面板清洗
• 兆聲輔助的剝離工藝

SWC-4000單晶圓兆聲清洗機(jī)的特點(diǎn)：

• 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
• 獨(dú)立系統(tǒng)
• 無(wú)損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
• 微處理機(jī)自動(dòng)控制
• 化學(xué)試劑滴膠單元
• 溶劑與酸分離排廢
• 熱氮
• 30"D x 26"W 的占地面積

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)選配項(xiàng)：

• 掩模板或晶圓片夾具
• 臭氧清洗
• PVA軟毛刷清洗
• 高壓DI清洗
• 氮?dú)怆x子發(fā)生器

客戶可以根據(jù)基板尺寸的大小訂制不同的兆聲清洗系統(tǒng)，如有技術(shù)咨詢，請(qǐng)及時(shí)：

First-Nano的技術(shù)也適用于清洗背部以及帶保護(hù)膜掩模版前面的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，降低這些掩模版的不必要去除和重做保護(hù)膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準(zhǔn)備表面以便再次覆膜。此外，帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉(zhuǎn)甩干可以做到無(wú)損并且對(duì)薄膜無(wú)滲漏。

SWC是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。