污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
寧波博爾超聲波設(shè)備有限公司
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更新時間:2022-06-21 17:14:29瀏覽次數(shù):261次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線適用產(chǎn)品:微電子工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室
EDI超純水設(shè)備適用于集成電路芯片,單晶硅,顯象管,液晶顯示器,計算機硬盤,線路板等工藝所需的純水和超純水制備。其關(guān)鍵器件采用美國Electropure公司的EDI模塊及HANNA公司的電導(dǎo)率表、電阻率表。其它主要配件則采用了國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)材料及配件。這種配置方法既保證了設(shè)備長期穩(wěn)定的運行以節(jié)約了投資成本,進一步推動了EDI這種環(huán)保易用的水處理設(shè)備在中國的應(yīng)用。本公司生產(chǎn)的PR-RO-EDI一體化設(shè)備采用全自動控制系統(tǒng),操作簡單,不需要酸堿再生,可連續(xù)生產(chǎn);不需要處理廢酸堿,安裝條件簡單,系統(tǒng)設(shè)計簡單,運行成本低,水質(zhì)穩(wěn)定,安裝維修簡便。
EDI與傳統(tǒng)混床的比較——
項目 | EDI | 混床 |
產(chǎn)水性質(zhì) | 15~18MΩ·cm | 2~10MΩ·cm |
穩(wěn)定性 | 水質(zhì)穩(wěn)定 | 水質(zhì)受樹脂交換狀況,再生品質(zhì)影響大 |
操作性 | 操作簡便,無需專業(yè)熟練工 | 再生時對操作人員操作水平要求高 |
環(huán)保性 | 無需酸堿,無任何化學(xué)汙染 | 需要酸堿再生,需解決酸堿儲存與排放的問題 |
連續(xù)運行 | 再生時無需停機,邊運行邊再生 | 再生時需要停機再生 |
運行費用 | 低 | 高 |
初期投資 | 較高 | 低 |
拋光混床:采用高交換容量、充分再生、無化學(xué)析出的核子級樹脂,去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質(zhì),使水質(zhì)達到18MΩ·cm以上。
EDI模塊進水條件
PH值 5.0~9.5 電導(dǎo)率 1~20μs/cm,導(dǎo)電率2~20μs/cm 總C02 <5ppm 硅 <0.5ppm 硬度以(CaC03計) <1.0ppm 進水壓力 0.15~0.5MPa
應(yīng)用領(lǐng)域
超純水常用于微電子工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室。
EDI模塊結(jié)構(gòu)特點
1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料
2、EDI膜片采用進口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜
3、采用進口EDI專用均粒樹脂和國產(chǎn)EDI專用均粒樹脂
4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù)
5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。
6、固定螺絲采用國標標準件
7、膜堆出廠試壓7bar不漏水
8、膜堆電阻低、功耗小
9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實
10、膜堆處理水量3T/H,最小模堆處理水量 11、純水、濃水、極水通道設(shè)計合理,不易堵塞,水流分布均勻、*。 進水指標要求 ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水 ◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm。 ◎電導(dǎo)率:<40μS/cm ◎PH:6.0~9.0。當總硬度低于0.1ppm時,EDI工作的pH范圍為8.0~9.0。 ◎溫度: 5~35℃。 ◎進水壓力:<4bar(60psi)。 ◎硬度:(以CaCO3計):<1.0ppm。 ◎有機物( TOC):<0.5ppm。 ◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。 ◎變價金屬: Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。 ◎H2S:<0.01ppm。 ◎二氧化硅:<0.5ppm。 ◎色度:<5APHA。 ◎二氧化碳的總量:<10ppm ◎SDI 15min:<1.0。
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