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制藥純化水反滲透設(shè)備 電子行業(yè) 權(quán)坤可定制

參   考   價: 18000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號QKCV

品       牌權(quán)坤

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地南京市

更新時間:2024-09-01 17:42:55瀏覽次數(shù):819次

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陳先生

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操作壓力 0.3Mpa 產(chǎn)地 國產(chǎn)
出水量 20L/H 單機(jī)出力 10L/h
電導(dǎo)率 30w 電壓 220v
功率 30w 加工定制
水電阻率 18.25 水質(zhì)要求 市政自來水
脫鹽率 98% 外形尺寸 39X48.5X55cm
應(yīng)用領(lǐng)域 紡織,光電,鍋爐,實驗室,生活飲用水
產(chǎn)品摘要: 制藥純化水反滲透設(shè)備 電子行業(yè) 權(quán)坤可定制 水設(shè)備簡單來說就是生產(chǎn)純凈水的設(shè)備,通過反滲透系統(tǒng)的膜過濾工藝,濾除原水中的鈣離子、鎂離子、鈉離子等,使其隨廢水排除,理論上使得水中只含有水分子。現(xiàn)在隨著生活飲用和工業(yè)生產(chǎn)對水質(zhì)的要求越來越高,使得它廣泛被應(yīng)用于各個域。
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電子工業(yè)中,從陰射線管到二管、晶體管等離散裝置,標(biāo)稱特征大小為零。從不到5毫米的復(fù)雜集成電路,有多種產(chǎn)品。集成電路的生產(chǎn),特別是現(xiàn)代化的生產(chǎn),不同于任何產(chǎn)業(yè)應(yīng)用對高純度數(shù)量的要求。鍋爐的水質(zhì)要求用離子的含量表示,不包括粒子和細(xì)菌。但是電子工業(yè)必須考慮水的所有污染物,包括離子、有機(jī)物、粒子和二氧化硅。一般來說,電子工業(yè)用超純水進(jìn)行表面清洗。集成電路生產(chǎn)過程中暴露的硅多要經(jīng)過30 ~ 40個生產(chǎn)過程。在每個過程中,導(dǎo)電或絕緣的材料層被添加到硅的表面。因此,在添加下一層之,必須用硫酸、氫氟酸等腐蝕性化學(xué)藥品蝕刻部分表面。為了*沖洗和清除硅表面的化學(xué)藥品,化學(xué)蝕刻過程之間需要超純水。其他電子產(chǎn)品制造過程也包括表面清洗,但集成電路的尺寸太小,水中的污染物會在硅表面添加大量雜質(zhì),使電路鈍化。鈉離子和氯化物等東西吸附在電路的特定層上,改變裝置的電氣特性和終產(chǎn)品的性質(zhì)。水中的有機(jī)物傾向于遷移到表面,與表面結(jié)合。含量低的溶解有機(jī)物也可以附著在套裝上。

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破壞電路中后續(xù)層的位置。粒子(如細(xì)菌)的大小無疑會超過較小集成電路的特性大小,從而破壞額外的層,或者在相鄰電路之間產(chǎn)生電氣短路。

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電子產(chǎn)業(yè)18mh  cm超純制備系統(tǒng)圖。該系統(tǒng)由預(yù)處理、反滲透、一次離子交換和精煉循環(huán)供水系統(tǒng)三部分組成。根據(jù)原水質(zhì)量、水型、系統(tǒng)規(guī)模大小及終水質(zhì)指標(biāo)的要求,局部有一定的變化。原水是地表水,規(guī)模較小的系統(tǒng)經(jīng)常使用活性炭去除余氯,大型系統(tǒng)使用注入還原劑的方法。原水對于地下水、規(guī)模較小的系統(tǒng),為了防止反滲透系統(tǒng)中碳酸鹽種類和硫酸鹽種類的沉淀,優(yōu)先選擇軟化機(jī)去除鈣、鎂,大型系統(tǒng)通常采用自動注入阻抗劑的方法。初離子交換工藝取決于原水含鹽量的高低和規(guī)模。


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