詳細(xì)介紹
APS可在1 - 100 MHz的頻率范圍內(nèi)非常準(zhǔn)確地測量聲音衰減。因為聲音穿過所有的物質(zhì)媒介,APS聲音衰減的測量可以在高濃度和/或不透明的樣品中進(jìn)行。粒子沉降并不是一個問題,因為在測量時樣品可以被攪拌或泵送。APS分析不受樣品的Zeta電勢水平的約束。APS很容易分析零粒子和高電荷。
高濃度納米粒度儀原理:
APS 從聲衰減光譜測量產(chǎn)生PSD數(shù)據(jù),不需要稀釋樣品。APS還測量粒度范圍的10納米到100微米的樣品的聲音速度譜、pH、電導(dǎo)率和溫度。
當(dāng)聲音穿越泥漿或膠體時,是衰減的。衰減的程度與粒度分布有關(guān)。APS可在1 - 100 MHz的頻率范圍內(nèi)非常準(zhǔn)確地測量聲音衰減。因為聲音穿過所有的物質(zhì)媒介,APS聲音衰減的測量可以在高濃度和/或不透明的樣品中進(jìn)行。粒子沉降并不是一個問題,因為在測量時樣品可以被攪拌或泵送。APS分析不受樣品的Zeta電勢水平的約束。APS很容易分析零粒子和高電荷。
APS取樣分析是快速和容易的,無需稀釋樣品。稀釋樣品費時,容易出錯,并可能改變樣品的實際PSD。簡單地倒,或者連續(xù)泵送樣品進(jìn)入到APS的樣品室,APS的直觀的軟件在幾分鐘內(nèi)做玩余下的工作。
計算詳細(xì)PSD數(shù)據(jù)的技術(shù),不需要假設(shè)PSD形狀。其他類型的儀器,例如光散射,意味著軟件或操作者假設(shè)或猜測PSD是單峰、雙峰、對數(shù)正態(tài)或高斯分布的。這種假設(shè)可能導(dǎo)致數(shù)據(jù)不可靠。
APS硬件設(shè)計簡化了操作,同時減少維護(hù)。這個設(shè)計適合研發(fā)以及重復(fù)質(zhì)量控制測量。APS也適合過程在線操作。
高濃度納米粒度儀主要用途:
1)半導(dǎo)體化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)料漿;
2)陶瓷;
3)油墨;
4)乳劑穩(wěn)定性;
5)藥品;
6)生物膠體;
7)熒光粉;
8)有機(jī)和無機(jī)顏料如Ti02和炭黑;
9)催化劑;
10)礦物;
11)聚合物乳液;
12)水和非水分散體系;
技術(shù)參數(shù):
1)完整的粒度分布,而不是簡單的平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差大小的數(shù)據(jù);
2)不需要稀釋樣品;
3)不需要假設(shè)PSD形狀;
4)粒度范圍:0.005-100微米;
5)無電解質(zhì)干涉;
6)可測量水的/非水的/不透明的/粘性的樣品;
7)可測量縱向粘度,%固體,PH值,電導(dǎo)率,溫度,聲衰減和聲速度譜;
8)具有自動滴定選項;
9)技術(shù):1-100MHz聲衰減譜;
10)溶劑:水/非水;
11)樣品固體%:0.1-60%體積比;
12)樣品體積:標(biāo)準(zhǔn)是120ml,50ml小體積可用;