詳細介紹
垂直模式熱膨脹儀 L75 PT VS/VD的開發(fā)是為了滿足世界各地學術界和實驗室研究的需求。該系列熱膨脹儀可以精確測定固體、液體、粉末和膠體的熱膨脹系數。由于垂直系統(tǒng)的“零摩擦”的設計保證了測量結果的精確,該系統(tǒng)的*的垂直設計非常適合低或超低膨脹系數材料。該系列熱膨脹儀能夠在真空條件下,氧化性和還原性氣氛中測量。
垂直模式熱膨脹儀 L75 PT VS/VD該系統(tǒng)可以用于單樣品或差示條件下測量以獲得更高的精度或樣品通量。該系列熱膨脹儀的可選機械和電子部件便于拆卸在手套箱中的測量。
新低溫爐配件:溫度可降至10K
LINSEIS L75垂直超低溫操作系統(tǒng)(零摩擦)。該系統(tǒng)提供一個寬泛的溫度范圍(-260°C ——+220°C ),多種樣品支架可選。在真空或程序控制的氧化環(huán)境或還原環(huán)境中進行測量時,仍能保證高精度和易操作性。
可以測量以下的物理性質:
熱膨脹系數,線性熱膨脹,物理熱膨脹,燒結溫度,相變,軟化點,熱分解溫度,玻璃化轉變溫度。
配置 | 單桿或差示熱膨脹儀 |
溫度范圍 | -180°C —— 500/700/1000°C |
RT —— 1000/1400/1600/1650/2000/2400/2800°C | |
-260°C —— +220°C (液氦) | |
加熱/冷卻速率* | 0.01 K/min —— 100 K/min |
樣品支架 | 熔融石英 <1100°C |
Al2O3 <1750°C | |
石墨 2000°C | |
樣品長度 | zui大50 mm |
樣品直徑 | 7/12/20 mm |
可調樣品壓力 | zui大 1000 mN |
測量范圍 | 500/5000 µm |
分辨率 | 0.125 nm |
氣氛 | 還原、惰性、氧化、靜態(tài)/動態(tài) |
DTA計算 | 可選 |
電路板 | 集成 |
接口 | USB |
* 取決于爐體