KA2000型全譜直讀光譜分析儀流線型全新設計的桌面光譜儀,滿足冶煉、金屬制造和機械加工的用戶要求,采用全電腦控制全數字火花光源,運用CCD檢測技術及*的真空光室可**測定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量,實現全譜分析。測定結果準,重現性及*穩(wěn)定性優(yōu)良;
KA2000型全譜直讀光譜分析儀配置及特點
1、 采用*設計的真空光室可**測定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量,測定結果準,重現性及*穩(wěn)定性優(yōu)良。
2、 *的真空光學室結構設計,使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護方便快捷。
3、光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描,自動光路校準,確保譜線接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。
4、*的激發(fā)臺及氬氣氣路設計,大大降低了氬氣使用量。靈活的樣品夾設計,以滿足客戶現場的各種形狀大小的樣品分析。
5、不增加硬件設施的情況下,即可實現多基體分析。相比光電倍增管光譜儀可大大降低客戶使用成本及使用范圍。
6、KA2000型光譜分析儀采用*的噴射電極技術。在激發(fā)狀態(tài)下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸,提高激發(fā)精度;配上
的光譜操作軟件*兼容于windows系統(tǒng)。同時可以根據客戶需求配備各種語言版本。軟件操作簡單即使沒有任何光譜儀知識及操作經驗的人員只需經過簡單的知識培訓即可上手使用。
7、采用高性能FPGA、DSP及ARM處理器,具有超高速數據采集分析功能,并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、、激發(fā)光源等模塊的運行狀況。
8、KA2000型光譜分析儀全數字化等等離子激發(fā)光源,超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數字激發(fā)脈沖,確保激發(fā)樣品等離子體能量超高分辨率和高穩(wěn)定輸出。滿足各種不同材料的激發(fā)要求。
9、樣品激發(fā)臺采用銅火花臺底座,鎢材料電極;銅火花臺底座為激發(fā)臺提供較好的散熱及堅固等特性,同時鎢電極使用壽命長,耐高溫等特性也提高了激發(fā)的性能;電極自吹掃功能的設計,為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境,也使激發(fā)臺清潔電極更加容易。
KA2000光譜分析儀分析基體 Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
光學結構 帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)
波長范圍 160-650nm
焦距 400mm
光柵刻線 3000條/mm
探測器 高性能CCD陣列,每塊CCD 3,648 像素,
CCD像素分辨率 6pm
電極 鎢材噴射電極
分析間隙 樣品臺分析間隙:4mm
光源類型 全新可調節(jié)數字化光源,高能預燃技術(HEPS)
激發(fā)頻率 100-1000Hz
*大放電電流 400A
真空系統(tǒng) 真空軟件自動控制、監(jiān)測