產(chǎn)品特性氣體分析 | 是否進(jìn)口否 |
產(chǎn)地西安 | 加工定制是 |
品牌西安博純 | 型號(hào)PUE-201 |
類(lèi)型PH在線監(jiān)測(cè)儀 | 訂貨號(hào)123 |
貨號(hào)123 | 測(cè)量范圍-100~+20 |
測(cè)量精度+20~-60?露點(diǎn)范圍內(nèi)為±1 | 功率3000w |
尺寸600*1500*400mm | 重量220kg |
適用范圍-100~+20 | 是否跨境貨源否 |
西安博純PUE-201多晶硅過(guò)程氣體分析儀/氫氣監(jiān)測(cè)/多晶硅露點(diǎn)/在線H2監(jiān)測(cè)
CEMS煙氣在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)設(shè)備
多晶硅過(guò)程氣體分析儀
多晶硅尾氣各主要成分的體積分?jǐn)?shù)分別為,HCl 30%;H2 64.2%;SIHCl3 5.4%;其他0.2%。多晶硅尾氣均為可回收的產(chǎn)品或可循環(huán)使用的原料。對(duì)尾氣進(jìn)行***治理,不僅可以提高原料的利用率,還可以降低三廢的排放量。為了合理治理尾氣,必須根據(jù)尾氣的特性、成分、壓力等,選擇適當(dāng)?shù)墓に嚵鞒毯图夹g(shù)條件。
多晶硅過(guò)程氣體分析系統(tǒng)可連續(xù)監(jiān)測(cè)工業(yè)硅提純的三氯氫硅氫還原工藝中氫氣的氧含量和微水含量以及在尾氣管道保護(hù)氣氮?dú)獾难鹾亢臀⑺?,從而保證***后提煉超純硅的品質(zhì)。
采用變壓吸附工藝,一次性去除所有雜質(zhì),確保分析效果準(zhǔn)確性。預(yù)處理單元中利用吸附劑吸附雜質(zhì)組分的能力遠(yuǎn)強(qiáng)于吸附氫氣能力,可以將混合氣體中的氫氣提純。本系統(tǒng)根據(jù)我國(guó)多晶硅生產(chǎn)線中高塵、高腐蝕的惡劣工況條件。
系統(tǒng)特點(diǎn)
1. 取樣系統(tǒng)為可插拔式探頭,方便更換濾芯
2. 過(guò)濾器可過(guò)粉塵和硅粉,過(guò)濾精度為0.1μm
3. 大屏幕現(xiàn)場(chǎng)就地顯示
4. 系統(tǒng)自動(dòng)標(biāo)定,無(wú)須人工校驗(yàn);
5. 主機(jī)采用純進(jìn)口檢測(cè)元件;
6.系統(tǒng)兼容性強(qiáng)大
7.手自動(dòng)一體,故障自檢;
技術(shù)參數(shù)
1) 型號(hào):PUE-201
2) 輸出:4-20 mA、RS232或485
3) 響應(yīng)時(shí)間:T90<>
4) 工作溫度:-20?~+60?
5) 電源:24 VDC
6) 防護(hù)等級(jí):IP65
7) 系統(tǒng)部件:316L不銹鋼
8) 防爆標(biāo)準(zhǔn):符合EEx ia IIC T4
微水分析儀:
a. 測(cè)量范圍:-100~+20?
b. 精度:+20~-60?露點(diǎn)范圍內(nèi)為±1?
c. -60~-100?露點(diǎn)范圍內(nèi)為±2?
d. 工作壓力:真空~40 MPa
e. 計(jì)量單位:PPmW,℃
f. 防爆標(biāo)準(zhǔn):非現(xiàn)場(chǎng)顯示型符合EEx ia IIC T4
g. 現(xiàn)場(chǎng)顯示型符合EEXd IIB T4