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半導體氨氣干燥機 除濕干燥機

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更新時間:2023-06-04 09:32:47瀏覽次數(shù):879

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產品簡介

加工定制    
半導體氨氣干燥機用途廣泛包括氮肥、銨鹽硝酸、尿素丙烯酰胺、氫氰酸、無機試劑、藥品、染料、金屬表面氮化、制冷劑、半導體用氣體、氧化、氮化膜、化學氣相淀積、標準氣等。

詳細介紹

半導體氨氣干燥機氨氣在常溫常壓下為具有特殊刺激性惡臭的無色有毒的氣體,比空氣輕。氨在常溫下穩(wěn)定,但是在高溫分解成氫和氮。一般在一個大氣壓下450~500時容易分解成氫氮混合氣。在空氣中可燃,但一般難以著火,如果連續(xù)接觸火源就燃燒,有時也能引起爆炸。氨呈堿性,具有強腐蝕性。氨氣用途廣泛包括氮肥、銨鹽硝酸、尿素丙烯酰胺、氫氰酸、無機試劑、藥品、染料、金屬表面氮化、制冷劑、半導體用氣體、氧化、氮化膜、化學氣相淀積、標準氣等。

目前工業(yè)制取液氨的方式主要是利用氫和氮在高溫高壓時在催化劑的作用下合成得到的。其粗氣中的組成雜質主要含有微量硫、水份、一氧化碳、氮氣、氧氣、鐵雜質及其它機械雜質和油等雜質。液氨中含有硫可通過脫硫裝置脫除,含有的油份可通過活性碳吸附,含有的機械雜質可通過精密過濾裝置過濾,氨中含有的雜質氣體可以通過萃取精餾工藝解決。氨中的水份在氨氣的雜質中占有的比重較大,在實際應用解決過程中遇到的問題也較多,特別是氨氣終的脫水深度及脫水過程中產品氣露點穩(wěn)定性是整個工藝脫水過程中克服的難點。隨著電子工業(yè)的發(fā)展,對NH3純度要求及雜質含量要求*。鑒于高純氨氣良好的應用前景,進一步開展NH3純度的技術研究,提高產品氣的純度是十分必要的。

 

二、半導體氨氣干燥機氨氣中雜質氣組成及其物化性質

1.1氨氣中雜質組成

【產品名稱】液體無水氨(液氨)

【產品簡介】液氨分子式:NH3 分子量:17.03 國家標準:GB536-88

【質量標準】

料液氨指標

                    優(yōu)等品        一等品        合格品

氨含量%            99.9          99.8         99.6

殘留物含量        0.1(重量法)    0.2           0.4

水份%              0.1                

油含量,mg/kg        5(重量法)                

2(紅外光譜法)               

鐵含量,mg/kg        1                

.2氨氣的產品指標

國家標準:GBT-14601-93

             

氨純度,10-2(體積分數(shù))                      99.999

氧含量,10-6(體積分數(shù))                             2

氮含量,10-6(體積分數(shù))                             5

一氧化碳含量,10-6(體積分數(shù))                        1

烴含量(C1~C3), 10-6(體積分數(shù))                        1

水份含量, 10-6(體積分數(shù))                            3

總雜質含量, 10-6(體積分數(shù))                          10

 

三、.NH3脫水干燥純化工藝研究

NH3脫水干燥工藝原理:

氨氣中水份的脫除主要采用的是選擇吸附的原理,選擇吸附是利用固體吸附劑對氣體中各級分的吸附能力不同,達到分離或純化氣體的目的。一切固體物質表面都有一種不飽和力場,其作用范圍相當于分子直徑大小。因此對于接觸固體物質的表面的氣體分子具有一定的吸附作用。只有多孔物質具有很大的內表面積,才有明顯的吸附效應。對于氨氣中水份的吸附主要采用物理吸附的方式,物理吸附時,吸附劑和吸附質之間同時存在吸附和解吸的作用。在一定的溫度下,解吸速度等于吸附速度時,達到吸附平衡。

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