2021年11月19日，在美麗的杭州蕭山，集成電路材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“材料聯(lián)盟”)與杭州科百特過(guò)濾器材有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“科百特”)聯(lián)合成功舉辦了集成電路超凈工藝技術(shù)Workshop，科百特微電子事業(yè)部總監(jiān)羅進(jìn)文主持了本次會(huì)議。
隨著半導(dǎo)體工藝節(jié)點(diǎn)不斷演進(jìn)，晶圓表面的潔凈要求也越來(lái)越嚴(yán)苛。晶圓表面微污染雜質(zhì)是影響芯片良率和芯片產(chǎn)品性能的關(guān)鍵因素。為應(yīng)對(duì)高階工藝對(duì)微污染控制提出的新挑戰(zhàn)和新需求，此次技術(shù)研討會(huì)邀請(qǐng)到了60余位半導(dǎo)體制造、硅材料、光刻膠、高純濕化學(xué)和拋光材料等相關(guān)行業(yè)的技術(shù)專(zhuān)家參會(huì)，共同探討新技術(shù)要求下的潔凈控制。
9點(diǎn)會(huì)議正式開(kāi)始，杭州市蕭山區(qū)政府倪世英、集成電路材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟石瑛秘書(shū)長(zhǎng)、科百特CEO Kevin、上海集成電路研究院董事長(zhǎng)俞文杰為大會(huì)做了精彩的致辭。
杭州市蕭山區(qū)政府倪世英 致辭
集成電路材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟石瑛秘書(shū)長(zhǎng) 致辭
科百特CEO Kevin 致辭
科百特CEO Kevin介紹了科百特專(zhuān)注在膜技術(shù)的發(fā)展，從微孔膜發(fā)展到現(xiàn)在的1nm的納米膜，主要應(yīng)用于兩大產(chǎn)業(yè)——生物制藥和集成電路，生物制藥主要用于除菌過(guò)濾，蛋白和病毒的濃縮和分離；在集成電路領(lǐng)域，可用于光刻、清洗、刻蝕和拋光等200多個(gè)工藝點(diǎn)的微污染過(guò)濾和純化，最小精度已經(jīng)做到1nm?？瓢偬卦诩{米過(guò)濾純化膜的研發(fā)道路上，離不開(kāi)廣大客戶的鼎力支持。特別感謝國(guó)家、蕭山區(qū)各級(jí)政府的大力支持，讓我們可以更高效的為集成電路產(chǎn)業(yè)客戶提供強(qiáng)有力的供應(yīng)保障。
此次會(huì)議特別邀請(qǐng)了武漢新芯集成電路制造有限公司運(yùn)營(yíng)官孫鵬、上海華力集成電路制造有限公司*模塊濕法研發(fā)專(zhuān)家李芳科長(zhǎng)、安集微電子科技(上海)股份有限公司應(yīng)用總監(jiān)王勝利和杭州科百特過(guò)濾器材有限公司CTO山田善章(Yamada Yoshiaki)做了精彩報(bào)告。
上海華力集成電路制造有限公司*模塊濕法研發(fā)專(zhuān)家李芳科長(zhǎng)線上做了《*工藝清洗技術(shù)發(fā)展及其對(duì)相關(guān)材料的需求》的報(bào)告，從清洗工藝的發(fā)展和挑戰(zhàn)給材料廠家提供了方向和建議。隨著晶體管結(jié)構(gòu)逐漸過(guò)渡到立體的鰭式結(jié)構(gòu)、應(yīng)力效應(yīng)鍺化硅的導(dǎo)入、高深寬比深槽結(jié)構(gòu)的增加等一系列挑戰(zhàn)，單片清洗設(shè)備對(duì)SC1清洗劑和IPA的用量急劇增加。
武漢新芯集成電路制造有限公司運(yùn)營(yíng)官孫鵬在《高純化學(xué)品微污染控制》的報(bào)告中，介紹了當(dāng)前半導(dǎo)體市場(chǎng)的發(fā)展趨勢(shì)及新的應(yīng)用領(lǐng)域?qū)π屡d細(xì)分化領(lǐng)域芯片的強(qiáng)勁增長(zhǎng)需求：5G通信、物聯(lián)網(wǎng)、汽車(chē)微控制器及非易失性閃存芯片產(chǎn)品。這些新的芯片除了對(duì)常規(guī)運(yùn)算/存儲(chǔ)性能以外，對(duì)基于安全的耐久性及功耗也有了超前的要求。孫總在報(bào)告中還分享了濕制程的相關(guān)案例，提出Fab對(duì)高品質(zhì)化學(xué)品穩(wěn)定供應(yīng)的要求。
安集微電子科技(上海)股份有限公司應(yīng)用總監(jiān)王勝利做了《*制程刻蝕后清洗技術(shù)》的報(bào)告，分享了后段干法蝕刻后的高選擇比清洗、氮化鈦掩膜的濕法回刻、3D NAND存儲(chǔ)器的高選擇比磷酸蝕刻、1Z DRAM的氧化鋯等High K薄膜蝕刻等一些關(guān)鍵技術(shù)難點(diǎn)工藝。
杭州科百特過(guò)濾器材有限公司日本支社社長(zhǎng)兼技術(shù)官山田善章在《半導(dǎo)體制造工藝整體潔凈解決方案》的報(bào)告中從制程、制造工序、供應(yīng)鏈方面介紹了半導(dǎo)體工藝制程中的超凈需求，詳細(xì)介紹了半導(dǎo)體化學(xué)品(堿性溶液、極性有機(jī)溶劑、光刻化學(xué)品)除金雜的解決方案，1nm高階光刻過(guò)濾產(chǎn)品以及超純200L包裝桶，介紹了過(guò)濾、純化、潔凈包裝的解決方案。
11月19日下午，材料聯(lián)盟同本次參會(huì)的技術(shù)專(zhuān)家分別參觀了科百特半導(dǎo)體濾芯百級(jí)潔凈車(chē)間、7000平技術(shù)驗(yàn)證中心、200L超凈包裝桶和高純化學(xué)品內(nèi)襯設(shè)備制造車(chē)間，大家感嘆科百特高速發(fā)展和通過(guò)技術(shù)攻克解決進(jìn)口依賴(lài)表示高度贊賞，對(duì)科百特半導(dǎo)體的戰(zhàn)略發(fā)展給予積極的評(píng)價(jià)。
寧波南大光電材料有限公司總經(jīng)理許從應(yīng)博士主持了參觀后的技術(shù)分享會(huì)，參會(huì)嘉賓共同探討了半導(dǎo)體*制造工藝微污染控制面臨的挑戰(zhàn)，工藝化學(xué)品和光刻膠技術(shù)專(zhuān)家們分享了材料的現(xiàn)狀和急需要攻克的難題，其中TMAH的純化與高純化學(xué)品的包裝容器備受關(guān)注。
會(huì)員1.png)
