詳細(xì)介紹
產(chǎn)品特點(diǎn)
● 超大處理空間,提升處理產(chǎn)能,采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行;
● 可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶的需求;保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;
● 高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
應(yīng)用范圍
真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè),半導(dǎo)體IC領(lǐng)域,硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域,汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè):高頻板表面活化,多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污,軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線、焊接前的清洗;硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
真空等離子處理設(shè)備又被稱為等離子表面處理器、等離子處理機(jī),普遍用以精密的機(jī)器設(shè)備、印染、粉體材料、汽車工業(yè)、航天航空、污染治理等*行業(yè)的活性、改性。等離子體清洗技術(shù)的是低溫等離子體的運(yùn)用,它是屬于干式環(huán)保的處理設(shè)備。等離子體清洗機(jī)主要是依靠高溫、高頻率、高能等外界條件。
真空等離子處理設(shè)備的等離子處理是一個(gè)干躁的過程。運(yùn)用電能催化反應(yīng),可提供低溫工作環(huán)境,避免使用危險(xiǎn)的濕式化學(xué)清洗物質(zhì)。它是屬于安全、靠譜、環(huán)保的,簡易地說等離子體清洗技術(shù)融合了等離子體物理、化學(xué)和固態(tài)表面反應(yīng),能合理有效地消除材料表層的殘留污染物,確保材料表層和本身特性不受影響。
真空等離子處理設(shè)備的等離子清理技術(shù)對(duì)半導(dǎo)體材料、金屬材料及高分子大部分纖維材料具備優(yōu)良的處理效果,不管待處理的材料形狀如何,均可完成整體、的局部及繁雜構(gòu)造的清洗。該加工工藝便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化和智能化,并裝有高精密的操縱設(shè)備,能準(zhǔn)確控制時(shí)間,記憶點(diǎn)等作用。由于其實(shí)際操作簡易、高精度、可操控性好環(huán)保等優(yōu)勢(shì),等離子體清洗技術(shù)的材料表層改性、活化蝕刻等功能在眾多行業(yè)獲得了好評(píng)。使用等離子清洗機(jī)清洗后,材料表層沒有殘余,根據(jù)挑選和配對(duì)不一樣的等離子清洗方法,能夠做到不一樣清洗效果,可以滿足后續(xù)制作工藝對(duì)材料加工的各種各樣要求。因?yàn)榈入x子體的專一性不強(qiáng),對(duì)具備繁雜構(gòu)造的物件如凹陷、孔眼、皺褶等處理也能適應(yīng)。
名稱(Name) | 真空式等離子處理系統(tǒng) |
型號(hào)(Model) | CRF-VPO-MC -6L |
控制系統(tǒng)(Control system) | PLC+觸摸屏 |
電源(Power supply) | 380V/AC,50/60Hz, 3kw |
射頻電源功率(RF Power) | 2000W/40kHz |
容量(Volume ) | 235L(Option) |
層數(shù)(Electrode of plies ) | 6(Option) |
有效處理面積(Area) | 500(L)*500(W)(Option) |
氣體通道(Gas) | 兩路工作氣體可選:Ar、N2、H2、CF4、O2 |
外形(Appearance ) | 鈑金結(jié)構(gòu) |