賽默飛Thermo Scientific™ ARL 4460直讀光譜儀提供的火花發(fā)射金屬分析性能，可快速可靠地對(duì)金屬質(zhì)量進(jìn)行控制。專為滿足從常規(guī)應(yīng)用到金屬科研的所有金屬分析需求而設(shè)計(jì)，是在各種實(shí)驗(yàn)室及惡劣環(huán)境中均可使用的解決方案。
ARL 4460直讀光譜儀特點(diǎn)：
1.穩(wěn)定，可靠的硬件
2.工廠校正曲線 
3.*的光譜制造技術(shù) 
4.分析軟件
5.分析準(zhǔn)確度更高，分析速度更快 
6.分析痕量元素和氣體元素具有新的突破
7.分析范圍廣泛：適于分析鋼鐵，鋁，銅，鎂，錫，鉛，鋅，貴金屬等金屬材料
8.對(duì)操作人員無特殊要求 
熱電ARL4460直讀光譜儀的技術(shù)參數(shù)：
1.光普室設(shè)計(jì): 一米焦距，帕邢龍格裝置，真空型，恒溫控制（38±0.1０C）,特殊鑄鐵材料制造,多設(shè)置60 條  通道
2.試樣臺(tái): 充氬樣品臺(tái);內(nèi)置自循環(huán)水冷系統(tǒng)
3.光柵: 根據(jù)分析任務(wù),儀器配置以下三種光柵中的一種
4.1080gr/mm,1667gr/mm,2160gr/mm
5.分辨率: 視光柵,出射狹縫和光譜等到級(jí)而定
6.狹縫寬度: 入射狹縫:20um; 出射狹縫:25 , 37.5 , 50 , 75um
7.光電倍增管: 直經(jīng)Φ28mm,10級(jí)側(cè)窗管,光學(xué)玻璃或人造石英窗
8.光源: 電流控制光源(CCS) 
9.光譜儀控制: 利用CMOS技術(shù)的APL MMB386微處理器,帶狀態(tài)控制卡;每條通道均配置數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換器和衰減器分為41檔;測(cè)量電子部分的動(dòng)態(tài)范圍與測(cè)量時(shí)間成正比,一般為2×106計(jì)數(shù)/秒
10.12位可編程衰減器 
11.時(shí)間分辨光譜(TRS) 
12.環(huán)境要求:室溫:16～30０C,允許溫差為50C/小時(shí);相對(duì)濕度20～80% 　
13.電力要求:電壓230V（+10%-15%），保護(hù)性接地的單相電源 
14.（電壓波動(dòng)超過±10%時(shí)需用5KVA穩(wěn)壓器）。電流12A，頻率50或60Hz；功率2.5KVA;接地電阻<1Ω 15.歐洲標(biāo)準(zhǔn):89/392/EEC低壓材料,89/366/EEC電磁 
16.氬氣要求: 純度99.995%,含量5ppm(分析高Si樣品時(shí),含量為2ppm) 
17.流量3.5升/分(分析時(shí)),0.35升/分(待機(jī)時(shí)) 　
18.幾何尺寸: 長1385(不計(jì)激發(fā)臺(tái)) ×寬910×高1220mm 
19.長1690(計(jì)激發(fā)臺(tái)) ×寬910×高1220mm　
20.系統(tǒng)重理: 約540公斤 　
21.輔助設(shè)備: 氬氣凈化器 瓶裝氬氣配氣系統(tǒng) 穩(wěn)壓器 制樣機(jī)