- 產(chǎn)品詳細(xì)
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1. 應(yīng)用范圍:
用于物相定性、定量、結(jié)晶度、晶粒大小、微觀應(yīng)力、點(diǎn)陣參數(shù)測(cè)定、界孔材料、薄膜材料物相分析等。
2.概 述
APD2000 X射線粉末衍射儀,是GNR公司推出的新一代X射線粉末衍射儀,采用大功率X射線發(fā)生器,石英射線管、銅靶、標(biāo)準(zhǔn)的長(zhǎng)細(xì)焦點(diǎn),輸出功率可達(dá)3KW,采用高速讀取的測(cè)角儀、光學(xué)編碼器配合步進(jìn)電機(jī)可獲得精que地角度值,可在水平和垂直的方向上完成角度測(cè)量,采用新一代的閃耀計(jì)數(shù)器,可勝任定性和定量分析工作。
3. 技術(shù)規(guī)格
3.1 X射線發(fā)生器
3.11 輸出功率: 3 KW(可選配4 kW)
3.12 輸出穩(wěn)定性: < 0.01 % ( 10%電壓波動(dòng))
3.13 輸出電壓: 60kv
3.14 輸出電流 : 60A(可選配80A)
3.16 電壓步寬: 0.1kV
3.17 電流步寬: 0.1mA
3.18 輸入電壓: 230 Vac(±10%), 50/60 Hz, 單相
3.2 X射線管
3.21 類型:石英(可選陶瓷),銅靶(任何X射線管可選配),
3.22 焦點(diǎn):長(zhǎng)細(xì)焦點(diǎn)0.4 x 12 mm LFF (可0.4 x 8 mm 細(xì)焦點(diǎn);1 x 10 mm 標(biāo)準(zhǔn)焦點(diǎn);2 x 12 mm長(zhǎng)寬焦點(diǎn))
3.23 輸出功率:3.0KW
3.3 測(cè)角儀Kα
3.31配置: 垂直或水平θ/2θ
3.32檢測(cè)直徑: 350-400mm
3.33垂直掃描角度范圍: - 60° < 2θ< + 168°(取決于所選附件)
3.34:水平掃描角度范圍: - 110° < 2θ< + 168°(取決于所選附件)
3.35測(cè)量角精度: ± 0.0001°
3.36最小選擇步數(shù): 0.0001°
3.37操作模式: 連續(xù)掃描、步進(jìn)掃描、θ/2θ掃描、快速掃描、θ軸向震動(dòng)
3.37可變發(fā)散狹縫: 0 - 4°
3.38可變防散射狹縫: 0 - 4°
3.39梭拉狹縫: 0 - 4°
3.4 檢測(cè)器
3.41 類型: *閃爍計(jì)數(shù)器,(f可選YAP (Ce),拋光硅CCD檢測(cè)器)
3.42 計(jì)數(shù)方式: 2 x 106 cps (Nal), 2 x 107 cps (YAP(Ce))
3.5 控制軟件
3.51 數(shù)據(jù)采集程序
GNR提供了強(qiáng)大的數(shù)據(jù)采集程序,可以適用于標(biāo)準(zhǔn)配,同時(shí)適用于自定義配置。
軟件可以應(yīng)用在粉末、高分辨率衍射儀、殘留馬氏體、應(yīng)力(平面和三軸)和薄膜分析。程序可以控制X射線發(fā)生器、準(zhǔn)直器、多用途樣品臺(tái)、閃耀計(jì)數(shù)器、陣列檢測(cè)器、固態(tài)檢測(cè)器、高低溫度和其他器件。
3.52 SAX
可以進(jìn)行單峰分析、峰值處理、背景差減,平滑,反褶積和峰值定位。結(jié)構(gòu)分析,晶體尺寸,晶格應(yīng)變,反射的定性和定量分析。