二級(jí)反滲透純化水設(shè)備簡(jiǎn)介：
一、二級(jí)反滲透純化水設(shè)備概述：系統(tǒng)采用全自運(yùn)控制，具有產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、操作簡(jiǎn)便、運(yùn)行費(fèi)用低、綠色環(huán)保、維護(hù)方便等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于工業(yè)水處理等相關(guān)行業(yè)。EDI具有可連續(xù)生產(chǎn)連續(xù)再生，產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定，運(yùn)行費(fèi)用低，操作管理方便，占地面積小等優(yōu)點(diǎn)。
二級(jí)反滲透純化水設(shè)備如下優(yōu)點(diǎn)：
1、出水水質(zhì)具有穩(wěn)定度。 
2、能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶(hù)要求的超純水。   
3、模塊化生產(chǎn)，并可實(shí)現(xiàn)PLC全自動(dòng)控制。 
4、不需酸堿再生，無(wú)污水排放。降低了勞動(dòng)強(qiáng)度，節(jié)省了酸堿和大量清潔水，減少了環(huán)境污染。   
5、不會(huì)因再生而停機(jī)。 
6、單一系統(tǒng)連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)，不需備用系統(tǒng)。
三、水處理純化水設(shè)備系統(tǒng)主要采用全自動(dòng)反滲透+電去離子（EDI）+拋光混床超純水處理技術(shù)，前置預(yù)處理加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質(zhì)，然后運(yùn)用CEDI及拋光混床系統(tǒng)，進(jìn)一步提升水質(zhì)，使出水達(dá)到用水工藝要求。系統(tǒng)采用全自運(yùn)控制，具有產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、操作簡(jiǎn)便、運(yùn)行費(fèi)用低、綠色環(huán)保、維護(hù)方便等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于工業(yè)水處理等相關(guān)行業(yè)。
純化水設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范：
　　1、法規(guī)
　　(1)中華人民共和國(guó)藥品管理法實(shí)施條例
　　(2)中華人民共和國(guó)藥典(2010版)
　　(3)藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范(GMP) (2010版)
　　2、參照標(biāo)準(zhǔn)
　　(1)JB/T20093-2007制藥機(jī)械行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
　　(2)GB 9706.1-1995科研電氣設(shè)備*部分安全通用要求
　　(3)JGJ71-90潔凈室施工及驗(yàn)收規(guī)范
　　(4)YYT_1244-2014_體外診斷試劑用水標(biāo)準(zhǔn)
　　(5)JB/T 2932-1999水處理設(shè)備 技術(shù)條件
　　(6)GB150鋼制壓力容器
　　(7)NB/T47003.1—2009鋼制焊接常壓容器
　　(8)GB50236-98現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備、工業(yè)管道焊接工程施工及驗(yàn)收規(guī)范
　　(9)GB/T 5226.1-96機(jī)械產(chǎn)品電氣安全要求通用要求
　　(10)GB-52261-2002 機(jī)械安全機(jī)械電氣設(shè)備*部分：通用技術(shù)條件