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光氧廢氣處理設(shè)備

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更新時(shí)間:2020-09-02 17:10:25瀏覽次數(shù):538

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產(chǎn)品簡介

光氧廢氣處理設(shè)備 整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。

詳細(xì)介紹

光氧廢氣處理設(shè)備 特點(diǎn):① 不需要高成本的化學(xué)藥劑,運(yùn)行穩(wěn)定,耐腐蝕,耐負(fù)荷沖擊能力大。 針對特定有害氣體成份馴化適當(dāng)?shù)奈⑸?,提高單位容積的負(fù)荷率。 填料采用有機(jī)無機(jī)混合填料,比表面積大,孔隙率高,并可為微生物提供營養(yǎng),可支撐大量不同種群微生物群。 填料活性介質(zhì)的損失小、可減少能耗,降低運(yùn)行費(fèi)用。采用強(qiáng)化自然生物降解污染物,無二次污染物產(chǎn)生。VOC去除率高,對H2S的去除率可達(dá)99%。 PLC控制系統(tǒng)自動運(yùn)行,無需人員管理。

光氧廢氣處理設(shè)備  反應(yīng)塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料,填料內(nèi)部復(fù)配多介質(zhì)催化劑。當(dāng)惡臭氣體在引風(fēng)機(jī)的作用下穿過填料層,與通過特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復(fù)配氧化劑在固相填料表面充分接觸,并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下,惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍:適用范圍廣,尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣,對疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點(diǎn):占地小,投資低,運(yùn)行成本低;管理方便,即開即用。缺點(diǎn):耐沖擊負(fù)荷,不易污染物濃度及溫度變化影響,需消耗一定量的藥劑。

 低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的著火電壓時(shí),氣體分子被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。

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