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精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品綜合介紹：

產(chǎn)品功能介紹
　　Gatan公司的精密刻蝕鍍膜儀 (PECS™) II 是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。對(duì)于同一個(gè)樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。
品牌介紹
　　美國(guó)Gatan公司成立于1964年并于70年代末進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)。Gatan公司以其產(chǎn)品的高性能及技術(shù)的*性在電鏡界享有*聲譽(yù)。
　　作的設(shè)計(jì)和制造用于增強(qiáng)和拓展電子顯微鏡功能的附件廠商，其產(chǎn)品涵蓋了從樣品制備到成像、分析等所有步驟的需求。產(chǎn)品應(yīng)用范圍包括材料科學(xué)、生命科學(xué)、地球物理學(xué)、電子學(xué)，能源科學(xué)等領(lǐng)域，客戶范圍涵蓋的科研院所，高校，各類檢測(cè)機(jī)構(gòu)及大型工業(yè)企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，并且在科學(xué)研究領(lǐng)域得到了廣泛認(rèn)同。
經(jīng)銷商介紹
　　歐波同有限公司的微納米技術(shù)服務(wù)供應(yīng)商，是一家以外資企業(yè)作為投資背景的，總部位于香港，分別在北京、上海、遼寧、山東等地設(shè)有分公司和辦事處。作為蔡司電子顯微鏡、Gatan掃描電子顯微鏡制樣設(shè)備及附屬分析設(shè)備在中國(guó)地區(qū)重要的戰(zhàn)略合作伙伴，公司秉承“打造國(guó)內(nèi)影響力的儀器銷售品牌"的經(jīng)營(yíng)理念，與蔡司，Gatan品牌強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合，正在為數(shù)以萬(wàn)計(jì)的中國(guó)用戶提供高品質(zhì)的產(chǎn)品與技術(shù)服務(wù)。
產(chǎn)品主要技術(shù)特點(diǎn)：
　　精密刻蝕鍍膜儀 (PECS™) II，采用兩個(gè)寬束氬離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行拋光，去除損失層，從而得到高質(zhì)量的樣品，用于在SEM、光鏡或者掃描電子探針上進(jìn)行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外將這兩支離子槍對(duì)準(zhǔn)靶材濺射，可用來(lái)對(duì)樣品做導(dǎo)電金屬膜沉積處理，以防止樣品在電鏡中發(fā)生荷電效應(yīng)。
　　這款儀器被設(shè)計(jì)為不破壞真空，不將樣品新鮮表面暴露在大氣中，即可對(duì)拋光樣品進(jìn)行處理。樣品的裝卸是通過(guò)一個(gè)專門設(shè)計(jì)的裝樣工具在真空交換艙中完成。
　　兩支具有更大電壓范圍的小型潘寧離子槍，可提供快速柔和的拋光效果。低至100eV的離子束提供更柔和的拋削效果，用于樣品的拋光。低能聚焦電極使得離子束的直徑在幾乎整個(gè)加速電壓范圍內(nèi)都保持一致。每個(gè)離子槍都能準(zhǔn)確獨(dú)立地進(jìn)行對(duì)中。在儀器運(yùn)行過(guò)程中，離子槍的角度可隨時(shí)進(jìn)行調(diào)整。離子槍的氣流可在觸摸屏上通過(guò)手動(dòng)方式或者自動(dòng)方式進(jìn)行調(diào)整，用于優(yōu)化離子槍的工作電流。
　　PECS II樣品臺(tái)采用液氮制冷方式?？梢杂行У谋Ｗo(hù)樣品，避免離子束熱損傷，消除可能的假象。
　　集成的10英寸彩色觸摸屏計(jì)算機(jī)可對(duì)PECS II系統(tǒng)的所有操作參數(shù)進(jìn)行*控制。此界面不僅可以設(shè)定所有參數(shù)并能夠監(jiān)控拋光過(guò)程。所有的操作參數(shù)還可以存為配方，調(diào)用配方可獲得高精度重復(fù)實(shí)驗(yàn)。
　　渦輪分子泵搭配兩級(jí)隔膜泵保證了超潔凈環(huán)境。通過(guò)Gatan的樣品裝卸工具能實(shí)現(xiàn)快速樣品交換（< 1min），這樣就能保證換樣過(guò)程中加工艙室始終處在高真空狀態(tài)。

圖片說(shuō)明：（A）PECSII 拋光的樣品表面的二次電子像，顯示出高度孿晶的晶粒（B）PECSII拋光后的鋯合金的菊池花樣（C）EBSD歐拉角分布圖（D）IPFZ面分而戰(zhàn)。照片由牛津大學(xué)材料學(xué)院AngusWilkin-son 教授和Hamidreza Abdolvａnd 博士提供。數(shù)據(jù)是在配有BrukerQuantax EBSD系統(tǒng)的Zeiss Merlin Compact掃描電鏡上采集。

產(chǎn)品主要技術(shù)參數(shù)：

離子源
*離子槍兩支配有稀土磁鐵的潘寧離子槍，高性能無(wú)耗材
*拋光角度±10°, 每支離子槍可獨(dú)立調(diào)節(jié)
離子束能量100 eV 到 8.0 keV
離子束流密度10 mA/cm2 峰值

離子束直徑可用氣體流量計(jì)或放電電壓來(lái)調(diào)節(jié)

樣品臺(tái)
樣品大?。狠^大直徑 32mm，大高度 15mm
樣品裝載：對(duì)于截面樣品拋光采用 Ilion™ II 的樣品擋板，二次再加工位置精確。
樣品拋光及鍍膜功能：兼具有平面拋光、截面拋光及濺射鍍膜功能，靶材數(shù)：2個(gè)
靶材切換：無(wú)需破壞真空，可直接切換
樣品旋轉(zhuǎn)：1 到 6 rpm 可調(diào)

束流調(diào)制：角度可調(diào)的單束調(diào)制或雙束調(diào)制

真空系統(tǒng)
干泵系統(tǒng)80 L/s 的渦輪分子泵配有兩級(jí)隔膜泵
壓力5 x 10-6 torr 基本壓力
8 x 10-5 torr 工作壓力
真空規(guī)冷陰極型，用于主樣品室；固體型，用于前級(jí)機(jī)械泵

*樣品空氣鎖Whisperlok技術(shù)，無(wú)需破壞主樣品室真空即可裝卸樣品，樣品交換時(shí)間 < 1 min

用戶界面
*10 英寸觸摸屏操作簡(jiǎn)單，且能夠*控制所有參數(shù)和配方式操作
*操作界面語(yǔ)言：提供中文、英文等多種選擇