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Monarc 陰極熒光系統(tǒng)

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更新時(shí)間:2021-06-29 17:09:09瀏覽次數(shù):305次

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Monarc 陰極熒光系統(tǒng)

詳細(xì)介紹




    品牌: GATAN

    名稱(chēng)型號(hào):MonoCL4新一代陰極發(fā)光系統(tǒng)

    制造商: GATAN公司

    經(jīng)銷(xiāo)商:歐波同(中國(guó))有限公司

    免費(fèi):


     型號(hào) 450

     Monarc™—重新定義了 SEM (掃描電子顯微鏡)上陰極熒光 (CL) 表征的能力。

    通過(guò)突破性的光路設(shè)計(jì),Monarc 具有顯著增加的靈敏度和譜分辨率,由此帶來(lái)的特色的波長(zhǎng)-角度分辨能力,使您能夠進(jìn)行更為完整的陰極熒光(CL)表征分析工作。作為新一代的CL探測(cè)器,Monarc 為高要求的納米光子學(xué)(nanophotonics)、光電子學(xué)(optoelectronics)以及地質(zhì)科學(xué)等應(yīng)用領(lǐng)域帶來(lái)了全新的見(jiàn)解


    性能優(yōu)點(diǎn)


    快速獲取高質(zhì)量數(shù)據(jù)


    ? 以優(yōu)異的空間分辨率(<10 nm="" 1="" br="">(0.1 nm)采集 CL 數(shù)據(jù)

    ? 采集同時(shí)具有角度和波長(zhǎng)分辨能力的 CL 數(shù)據(jù)

    ? 相較前代技術(shù),以高達(dá)30倍的更快速度采集超光譜
    (hyperspectral)數(shù)據(jù)


    操作簡(jiǎn)便


    ? 通過(guò)全自動(dòng)的光路對(duì)準(zhǔn)和基于配方驅(qū)動(dòng)的操作,得到優(yōu)化的結(jié)果

    ? 恒常對(duì)準(zhǔn)的光路為短期與長(zhǎng)期工作帶來(lái)可重復(fù)的結(jié)果

    ? 大視野提高數(shù)據(jù)采集通量,并簡(jiǎn)化用戶的工作流程


    與其它信號(hào)的精確關(guān)聯(lián)


    ? 同時(shí)偵測(cè)多種信號(hào),對(duì)物理性質(zhì)或成分信息與CL數(shù)據(jù)進(jìn)行關(guān)聯(lián)成像

    ? 不需折衷妥協(xié)——在進(jìn)行CL測(cè)量的同時(shí),充分利用 SEM 的 in-lens探頭



    圖 1. 該幅偏振過(guò)濾的 CL 圖像證明了 Monarc 能夠提供空間分辨率優(yōu)于10 nm 的 CL 數(shù)據(jù)。圖像來(lái)自尺寸在 100 nm 左右的星狀金納米顆粒兩組正交線性偏振發(fā)光的顏色疊加。


    特色功能


    ? 角度分辨(angle-resolved CL,ARCL):在遠(yuǎn)低于光學(xué)衍射極限的尺度上理解光與物質(zhì)的交互作用——相較前代技術(shù),400x 更大視野,且不產(chǎn)生實(shí)際分辨率損失(申請(qǐng)中)

    ? 波長(zhǎng)-角度分辨(wavelength- and angle-resolved CL, WARCL):跨越多重觀察角度與波長(zhǎng),對(duì)光與物質(zhì)的交互作用進(jìn)行可視化——?dú)w功于*的光路設(shè)計(jì),以前無(wú)法做到或非常難以實(shí)現(xiàn)的表征手段,在 Monarc 上成為常規(guī)工作

    ? 偏振過(guò)濾:獲知例如光波段擔(dān)任納米天線、光子晶體等深度次波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)的發(fā)光偏振性能


    應(yīng)用領(lǐng)域
    ? 光電材料研發(fā)

    ? LED 和激光失效分析

    ? 顯示與照明

    ? 光-物質(zhì)交互作用基礎(chǔ)研究

    ? 納米光子學(xué)

    ? 光子晶體

    ? 地質(zhì)科學(xué)-痕量元素分布

    ? 光伏材料表征

    ? 熒光技術(shù)


    Monarc 配備兩種不同型號(hào),滿足不同應(yīng)用需求:


    Monarc

    適合于地質(zhì)科學(xué)與面分布成像應(yīng)用,Monarc 型號(hào)擁有不受譜分辨率影響的更大視野,并通過(guò)其新穎的波長(zhǎng)過(guò)濾譜成像能力,提供更高空間采樣的超光譜數(shù)據(jù)采集,性能大大超越基于前代技術(shù)的 SEM CL 探測(cè)器。


    Monarc Pro
    對(duì)于納米光子學(xué)與光電子材料應(yīng)用,Monarc Pro 更為適用,由于其提供了更高的靈敏度與譜分辨率;并具備*的波長(zhǎng)-角度分辨分析能力以及偏振過(guò)濾選項(xiàng)。




    圖 2. 使用 Monarc 對(duì)含有 V-pit 缺陷的GaN/InGaN多重量子阱樣品采集獲得的復(fù)合波長(zhǎng)過(guò)濾像,提取自超光譜數(shù)據(jù)塊 (紅色 = 504 ± 2 nm, 綠色 = 435 ± 2 nm, 紫色 = 365 ± 2 nm)。



    圖 3. 運(yùn)用 Monarc *的波長(zhǎng)-角度分辨采譜模式,對(duì)薄膜 InGaN基 LED 發(fā)光性能近乎完整的表征。發(fā)射光與反射光之間相互干涉形成了隨著發(fā)光波長(zhǎng)而變化的發(fā)射圖樣。


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