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純化水處理設(shè)備

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更新時間:2022-05-23 12:11:14瀏覽次數(shù):722次

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產(chǎn)品介紹重慶洺膜純化水處理設(shè)備適用于新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品

產(chǎn)品介紹

    重慶洺膜純化水處理設(shè)備適用于新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。
    集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。都應(yīng)該使用多種純化技術(shù)相結(jié)合制取高品質(zhì)的純水,這樣才能大大提高純水的純度,符合用水需求。
    而臨床制藥行業(yè)純水設(shè)備采用雙級反滲透技術(shù)與純化、殺菌技術(shù)相結(jié)合,出水水質(zhì)達到美國ASTM、NCCLS、CAP試劑級純水標準。

工藝設(shè)計

    1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
    2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)。
    3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)。
    4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)。
    5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。

設(shè)備特點

    1.采用進口反滲透膜,脫鹽率高,使用壽命長,運行成本低廉。
    2.無需酸堿處理,環(huán)保無“三廢”。
    3.自動控制,自動維護,水質(zhì)在線檢測,隨時監(jiān)測水質(zhì)變化。
    4.切合當?shù)厮|(zhì)的個性化設(shè)計,滿足需求。
    5.全自動控制系統(tǒng),日常操作極為簡便,系統(tǒng)自動進行沖洗維護,制取產(chǎn)品水過程不需要任何手工操作。
    6.雙流路設(shè)計,不但可以制造超純水,還生產(chǎn)純水,方便用戶實驗室的不同級別用水要求。
    7.預留了升級空間。可以根據(jù)用戶需要輕松實現(xiàn)功能升級。

技術(shù)參數(shù)

    電子級超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。
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