型號：ALD-1200X-4
產(chǎn)品概述：ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng)，包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發(fā)生器以及用于CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)。該管式爐系統(tǒng)簡潔的設計使得更多的科研院所能夠在可負擔的低成本情況下實現(xiàn)ALD工藝實驗。
| 控制面板 | · 蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數(shù)均可通過一6英寸接觸屏由PLC進行控制 · 兩個ALD進氣閥 · 請點擊下圖查看控制面板（點擊圖片查看詳細資料） |
| ALD進氣閥 | 兩個ALD脈沖電磁閥（最小可在10ms完成閥門的開啟或關閉）
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| 精密液體氣相發(fā)生器 | 精密液體氣相發(fā)生器包含在本系統(tǒng)中并且連接到ALD進氣閥
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| 雙溫區(qū)管式爐 | · 連續(xù)工作的溫度為1100℃ · 兩個溫區(qū)由兩個獨立的溫控系統(tǒng)來控制，而且都為PID30段程序化控溫 · 每個加熱區(qū)長度為200mm，加熱區(qū)總長度為400mm · 爐管兩端放置管堵時兩溫區(qū)的溫度差為500℃ · 輸入電壓：208-240V AC，單向 功率為4KW
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| 防腐型數(shù)顯真空計 | · 測量范圍：3.8x10-5 -1125 Torr · 耐腐蝕 · 對于氣體的壓力檢測具有較高的精確度和重復性 · 可實現(xiàn)快速的氣體監(jiān)測，響應時間較短 易于更換插頭及傳感元件
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| 真空泵（選配） | · 管內(nèi)真空度可達10-2Torr 真空泵不包含在本系統(tǒng)內(nèi)，如您進行CVD實驗可點擊下圖選購無油渦旋真空泵 |
| 混氣系統(tǒng) | · 可選購氣液混合裝置，用于CVD系統(tǒng) · 可選購恒溫控制模塊 |
| 更新觀念 | · 您可采用ALD設備搭建等離子增強原子層沉積+化學氣相沉積系統(tǒng)（PE-ALD+CVD）和等離子增強原子層沉積+物理氣相沉積+化學氣相沉積系統(tǒng)（PE-ALD+PVD+CVD），用于生長各類材料 · |
| 質(zhì)保期 | 一年保質(zhì)期，終身維護（不包含爐管，加熱元件和密封圈） |
| 質(zhì)量認證 | · CE認證 · 所有電器元件（＞24V）均滿足UL/MET/CSA認證 · 如您另付費用，我們可保證單臺儀器通過TUV（UL61010）或CSA認證 |
| 注意事項 | · 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa · 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 · 當爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài) · 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 · 點擊此處了解如何選擇本公司石英/陶瓷管以及管式爐真空法蘭 本公司有權隨時修改PE-CVD系統(tǒng)的設計不再另行通知，但我們保證修改之后的儀器質(zhì)量可以達到和超過上述標準 |
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