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北京杜克泰克科技有限公司
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更新時間:2024-03-13 20:05:13瀏覽次數(shù):249次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線實踐證明深紫外光刻工藝深受多種類微量污染物的影響,對很多微量污染物極為敏感,比如氨氣或者酸性氣體都會給半導體生產(chǎn)帶來極大的危害,盡管隨著深紫外耐腐蝕材料技術的發(fā)展,已經(jīng)減少了長時間持續(xù)實時監(jiān)測,而實際上空氣分子污染(AMC)的實時測量對產(chǎn)品質(zhì)量的好壞至關重要。
AMC空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)
獵戶座3100S
概述:
光刻工藝潔凈室內(nèi)痕量級NH3,HCL,HF等氣體的超高靈敏度、實時測量
實踐證明深紫外光刻工藝深受多種類微量污染物的影響,對很多微量污染物極為敏感,比如氨氣或者酸性氣體都會給半導體生產(chǎn)帶來極大的危害,盡管隨著深紫外耐腐蝕材料技術的發(fā)展,已經(jīng)減少了長時間持續(xù)實時監(jiān)測,而實際上空氣分子污染(AMC)的實時測量對產(chǎn)品質(zhì)量的好壞至關重要。
獵戶座3100S系列空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)基于CEAS(腔增強吸收光譜)技術連續(xù)分析儀器,將增加半導體器件阻抗一致性、保證更長的過濾器壽命、減少生產(chǎn)過程的停工時間。
DUKE HMI(人機交互界面)軟件可以實時觀察、實時測量、實時操作對不同空間不同位置的NH3、HCL、HF進行分析,軟件專門針對半導體行業(yè)開發(fā),對于深紫外光刻工藝過程中監(jiān)測與控制空氣分子污染(AMC)提供有力的支持,軟件集成了多點采樣(MS)控制功能,具有實時顯示數(shù)據(jù)曲線、報警、存儲、趨勢、歷史曲線、分析等功能。
獵戶座3100S 系統(tǒng):
完善的空氣分子污染(AMC)監(jiān)測
實時監(jiān)測空氣分子污染(AMC)對于半導體生產(chǎn)過程極為重要??焖俦O(jiān)測、報警、極低濃度測量、寬測量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業(yè)要求之一。
深紫外光刻工藝特別關注氨、胺類、N-甲基吡咯烷酮NMP、酸類等濃度測量,當這些氣體與化學放大光刻膠反生反應時,將深深的影響半導體器件質(zhì)量。
傳統(tǒng)古老的方法多采用間接測量分析方法。包括撞擊濾塵器、離子色譜、化學熒光法,這些方法分析速度太慢,操作過程太復雜,昂貴并且測量結果不精確。
DUKE采用被證明的CEAS(腔增強吸收光譜)技術解決AMC(空氣分子污染物)監(jiān)測難題,可快速測量痕量級NH3、HCL、HF,采用脈沖熒光法測量SO2,采用增強型GC-FID測量VOCs。
獵戶座 3100S系列空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)測量痕量級NH3、HCL、HF并集成了uVOC-CAM特性,是半導體行業(yè)潔凈室AMC(空氣分子污染)測量的有力工具。
獵戶座 3100S也集成了多點監(jiān)測系統(tǒng),可依序?qū)怏w抽送到分析儀或傳感器,并讀出測量結果。獵戶座 3100S內(nèi)嵌的報警、報告、分析軟件是由多年半導體行業(yè)經(jīng)驗的工程師集體開發(fā)。
獵戶座 3100S使用Ethernet、RS485/RS232或4-20mA模擬模塊可以輸出來自4~6臺分析儀或傳感器的數(shù)據(jù)。
每臺分析儀配有內(nèi)置計算機(Linux OS),可進行數(shù)據(jù)存儲和數(shù)據(jù)輸出,還支持遠程網(wǎng)絡控制,通過互聯(lián)網(wǎng)可以連接DUKE公司總部或者當?shù)亟?jīng)銷商服務商,進行操作或者診斷。
使用者可以通過網(wǎng)絡瀏覽器比如IE、Chrome等世界任意可以聯(lián)網(wǎng)的地方進行操作,遠程操作可實現(xiàn)多級管理權限控制和操作。
優(yōu)勢:
儀器基于CEAS(腔增強吸收光譜)技術,極簡使用、便捷操作,所有部件(包括內(nèi)置真空泵、鍵盤、鼠標、顯示器等)幾分鐘內(nèi)可開始記錄數(shù)據(jù),其他大氣中的水汽、CO2、O2、甲烷等不會對HCL、HF、NH3等測量構成交叉干擾。內(nèi)置計算機可以存儲大量數(shù)據(jù)到內(nèi)置硬盤上,可同過數(shù)字接口或者模擬接口傳輸數(shù)據(jù),可通過互聯(lián)網(wǎng)遠程存儲或記錄數(shù)據(jù),高質(zhì)量的數(shù)據(jù)庫,適合于苛刻的半導體痕量級氣體應用。
原理:
基于CEAS(腔增強吸收光譜)技術的儀器原理圖,使用近紅外波段光進行高靈敏度吸收測量,測量腔室由一組高反射率多次反射鏡片組成的柱狀體構成,激光束經(jīng)過固態(tài)校準器(FSR=2.00GHz)時會測量得到相對激光波長。為了保證清晰度,忽略了原本照射到左側(cè)測量單元腔鏡外的光束。
EP增強型版本集成了壓力傳感器和內(nèi)部溫度控制器,具有超穩(wěn)定性測量腔室,防止溫度漂移、壓力變化等造成的誤差。
CEAS(腔增強吸收光譜)相比于代的CRDS(腔衰蕩光譜)技術,有許多已被證明的優(yōu)勢。簡而言之,激光束不需要共振耦合進入測量腔室(例如光束不需要嚴格對準)。DUKE分析儀器和系統(tǒng)具有安裝簡單、機械牢固、防護結實等特點。
特性:
sub-ppb級實時測量
CEAS(腔增強吸收光譜)原理
苛刻危險環(huán)境下可連續(xù)無人值守測量
無試劑、無放射源、無紙帶消耗、無吸收管或者其他耗材
長期穩(wěn)定性和可靠性
固態(tài)電子器件無可移動部件
低維護量、長免維護期
出廠標定
單組份/多組份痕量級氣體測量
4~64通道多點采樣
獨立可編程報警、繼電器設置
可獨立編程采樣點順序和吹掃通道
開放的通訊協(xié)議,便于二次開發(fā)與集成
電源斷電或者斷閘,數(shù)據(jù)無丟失
觸摸屏允許數(shù)據(jù)顯示、表格顯示、曲線顯示等
? "外徑接口
管線:PFA, PVDF
距離采樣點最長管線:80m
盤裝彩色液晶顯示器
可遠程操作或可視化操作
任意的運載工具
輸出信號:標配 : RS232 , 可選 : 4-20 mA, Modbus
供電 : 115-230 Vac 50/60 Hz
校準報告
通過采樣器或者快速回路泵采樣
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