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北京大方科技有限責任公司
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更新時間：2022-11-26 13:02:25瀏覽次數(shù)：78次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線多點取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)一、項目概述脫硝噴氨過程需要準確監(jiān)測氨逃逸濃度，針對大型機組脫硝反應器出口煙道較大，為使測量更具代表性，可采用多點取樣方式監(jiān)測氨逃逸
多點取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)
脫硝噴氨過程需要準確監(jiān)測氨逃逸濃度，針對大型機組脫硝反應器出口煙道較大，為使測量更具代表性，可采用多點取樣方式監(jiān)測氨逃逸。用戶根據(jù)多點氨逃逸的測量數(shù)據(jù)，優(yōu)化、調整噴氨工藝，提高脫硝效率。多點取樣是指采用多個取樣系統(tǒng)采樣后混合或者輪流進入分析系統(tǒng)測量。
系統(tǒng)采用可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術進行NH3的測量，以可調諧激光器作為光源，發(fā)射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減，根據(jù)朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強成比例關系，從而實現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾，相比其它復合光源而言，具有的測量精度。
朗伯比爾定律：
其中光譜吸收系數(shù)：
根據(jù)脫硝氨逃逸測量點高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點以及測量濃度低、測量精度要求高等要求，產品采用大方科技經典的抽取+多反長光程測量技術，煙氣通過多個采樣系統(tǒng)取樣后混合或者輪流進入分析單元測量分析。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道震動等對測量的影響。煙氣流經管路及樣氣室全部采用高溫加熱，保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室，測量光程可達30米，可大大提高測量精度。
四、系統(tǒng)特點
1 采用TDLAS技術，不受背景氣體影響
系統(tǒng)采用可調諧二極管激光吸收光譜技術進行氣體的測量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長，使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。
2 系統(tǒng)無漂移，避免了定期校正需要
系統(tǒng)采用波長調制光譜技術，并且進行動態(tài)的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象。
3 全程高溫伴熱，避免氨氣吸附損失
抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱，確保無氨氣吸附損失。
4 采用多次反射樣氣室，極大地提高測量精度
系統(tǒng)采用多次反射測量池技術，光程可達30米，極大地提高了測量精度。
5 取樣更有代表性
根據(jù)煙道尺寸和用戶需求，選擇多個取樣點進行監(jiān)測，探桿插入深度可根據(jù)煙道寬度進行調整，取樣更有代表性。
6 多點監(jiān)測
可設定多個監(jiān)測點，分時輪流取樣分析或多個監(jiān)測點同時混合取樣分析，多個監(jiān)測點的數(shù)據(jù)可以通過模擬量實時傳輸?shù)紻CS。
7 自動反吹
具備自動反吹控制，反吹間隔和反吹時長根據(jù)工況設置，取樣結束后，對各點探頭依次輪流反吹，有效避免濾芯堵塞。
8 技術，便于維護光學器件
大方科技*的樣氣室設計，包含維護窗口，可以在不影響光路的情況下，對污染的光學器件進行清潔，無需重新調節(jié)光路，讓維護更加快速方便。
9 儀表自檢及自恢復功能
大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能，軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態(tài)，可以通過自檢及自恢復，使分析儀重新恢復測量工作狀態(tài)。
10 自主知識產權
大方科技深耕TDLAS技術領域20年，針對國內應用現(xiàn)場監(jiān)測難點進行專業(yè)和定制化開發(fā)，擁有數(shù)十項發(fā)明和軟件著作權，對產品擁有自主知識產權，產品具有高可靠性和適用性。
五、典型應用：
大型機組、自備電廠脫硝氨逃逸監(jiān)測
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