EP級：通過電化學拋光，可以使表層實際面積得到的減少。表面是一層封閉的、厚厚的氧化鉻膜，能量接近合金的正常水平，同時介質數量也會降為最少。 表面粗糙度5 - 10μin（0.13 - 0.25 μm)，適用純度高的氣體（99.999%-99.9999%）。
B*：光亮退火，在加氫或真空狀態(tài)高溫熱處理，消除內部應力同時在管道表面形成一層鈍化膜，以改善性能。表面粗糙度15 - 25μin（0.4 - 0.6 μm) ，適用純度高的氣體（99.99%-99.999%）。
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EP級：通過電化學拋光，可以使表層實際面積得到的減少。表面是一層封閉的、厚厚的氧化鉻膜，能量接近合金的正常水平，同時介質數量也會降為最少。 表面粗糙度5 - 10μin（0.13 - 0.25 μm)，適用純度高的氣體（99.999%-99.9999%）。
B*：光亮退火，在加氫或真空狀態(tài)高溫熱處理，消除內部應力同時在管道表面形成一層鈍化膜，以改善性能。表面粗糙度15 - 25μin（0.4 - 0.6 μm) ，適用純度高的氣體（99.99%-99.999%）。
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