名稱

1200℃多坩堝同時移動型管式爐（可同時移動2個坩堝源）-OTF-1200X-Ⅱ-S2

管式爐

雙溫區(qū)管式爐：兩個獨立的溫控系統(tǒng)對每個溫區(qū)進行獨立控溫

電壓：220V AC 50/60Hz

功率：3KW

加熱區(qū)長度：440mm

恒溫區(qū)長度：300mm

溫度曲線圖(兩個溫區(qū)設置在800℃時所測，僅供參考）

爐管材料：高純石英管

標配爐管尺寸：Φ100（外）×Φ94（內(nèi)）×640（長）

工作溫度：1200℃（＜1h）

連續(xù)工作溫度：1100℃

控溫精度：±1℃

推薦升溫速率：10℃/min

坩堝推送機構(gòu)（升降雙通道進料系統(tǒng)）

一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入爐管內(nèi)部，并與坩堝相連接，實現(xiàn)溫度的實時監(jiān)測（如圖1）。

升降雙通道進料系統(tǒng)放置在一中空的真空腔體中，上方采用不銹鋼真空法蘭進行密封，兩端同樣采用不銹鋼真空法蘭與坩堝推進裝置及管式爐進行連接，保證進料在真空狀態(tài)或者氣氛保護狀態(tài)下進行運作（圖2）。

進料系統(tǒng)真空腔體右端與管式爐連接法蘭處安裝有2個獨立小石英管（圖3）。

在升降雙通道進料系統(tǒng)中至多可放入4個坩堝（圖4），利用推送系統(tǒng)可交替將4個不同蒸發(fā)源單個依次送入石英管中，也可將放入不同材料的2個坩堝蒸發(fā)源一同送入，分別精確的推入兩個獨立的小石英管中（圖5），找到所需的蒸發(fā)溫度處進行共蒸發(fā)或者反應蒸發(fā)，保證實驗的重復性以及穩(wěn)定性（圖6）。

圖一 圖二 圖三 圖四 圖五

圖六

坩堝推送控制系統(tǒng)

采用PLC觸摸屏控制。

通過一步進電機控制坩堝的移動速度和位置，進樣位置和速度可調(diào)。

可控制坩堝移動位移為1mm。

坩堝移動距離為200mm。

真空表

機械壓力表+數(shù)顯壓力表

真空泵

真空度：10E-2 torr（采用機械泵），10-E5 torr（采用分子泵）

混氣系統(tǒng)

此套設備中配有一2路混氣系統(tǒng)

輸出功率：18W

工作溫度：5-45℃

精度：±1%FS

質(zhì)量流量計量程：1:0-100sccm 2:1-199sccm

可根據(jù)客戶要求選購1-5路供氣系統(tǒng)

水冷系統(tǒng)

標配—16L循環(huán)水冷系統(tǒng)

產(chǎn)品尺寸

2600mm（L）×600mm（W）×900（H）mm

質(zhì)保期

一年質(zhì)保期，終生維護。

質(zhì)量認證

CE認證

所有電器元件（>24V）都通過UL/MET/CSA認證

若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CSA認證。

國家

名稱：一種小型熱等靜壓爐裝置

編號：ZL-.0

使用注意事項

爐管內(nèi)氣壓不高于0.02MPa。

由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa，使用時會更加精確安全。

當爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài)。

進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。

石英管的長時間使用溫度<1100℃。

對于樣品加熱是實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需要時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）。

應用注意事項

此款管式爐具有多種用途。

熱蒸發(fā)：把蒸發(fā)料放在坩堝里，通過移動坩堝來精確找到所需要的蒸發(fā)溫度。

HPCVD：通入反應氣體與蒸發(fā)的物料反應后再沉積。

共蒸發(fā)沉淀或反應蒸發(fā)沉積:利用*的雙通道進料裝置可以實現(xiàn)兩蒸發(fā)源的同時送入，實現(xiàn)共蒸發(fā)沉積或反應蒸發(fā)沉積。

多層二維晶體：此套設備可以實現(xiàn)多層二維晶體的制備（硒化物硫化物等），操作方便簡單，實驗更具精確性、重復性。

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