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當(dāng)前位置:重慶開(kāi)衡科技有限公司>>cvd系統(tǒng)>> 流化床—化學(xué)氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設(shè)備 實(shí)驗(yàn)室臭氧發(fā)生機(jī)

流化床—化學(xué)氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設(shè)備 實(shí)驗(yàn)室臭氧發(fā)生機(jī)

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更新時(shí)間:2023-06-10 09:07:49瀏覽次數(shù):456次

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設(shè)備簡(jiǎn)介:流化床—化學(xué)氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設(shè)備,該設(shè)備包括有:自動(dòng)加液裝置、超聲波霧化發(fā)生裝置、氣體供應(yīng)裝置、氣體流量控制裝置、三溫區(qū)流化床反應(yīng)器及加熱裝置、旋風(fēng)分離器、固體收集裝置、凈化處理裝置

設(shè)備簡(jiǎn)介:

流化床—化學(xué)氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設(shè)備,該設(shè)備包括有:自動(dòng)加液裝置、超聲波霧化發(fā)生裝置、氣體供應(yīng)裝置、氣體流量控制裝置、三溫區(qū)流化床反應(yīng)器及加熱裝置、旋風(fēng)分離器、固體收集裝置、凈化處理裝置。氣體供應(yīng)裝置出氣口在經(jīng)過(guò)氣體流量控制裝置后與超聲波霧化裝置進(jìn)氣口相連接,自動(dòng)加液裝置出液口與超聲波霧化發(fā)生裝置進(jìn)液口相連接,通過(guò)霧化裝置內(nèi)部的液體控制裝置來(lái)控制加液。超聲波霧化裝置的出口與三溫區(qū)流化床反應(yīng)器的進(jìn)料口相連接,反應(yīng)器的出料口通過(guò)透明管與旋風(fēng)分離器相連接,旋風(fēng)分離器上面的氣體出口與凈化處理裝置相連接,下面的固體捕集出口與固體收集器相連接。經(jīng)過(guò)旋風(fēng)分離器后,大量的氣體向上通過(guò)凈化裝置后排向大氣,而固體則捕集到固體收集裝置中。碳納米管生長(zhǎng)Z難控制的就是氣場(chǎng)和流場(chǎng)溫度差異相互影響,由于變量太多,無(wú)法確保生長(zhǎng)的碳納米管形態(tài)一致,從而質(zhì)量質(zhì)量非常低,本方案完氣場(chǎng)和流場(chǎng)及溫度變量的相互影響。

本方案通過(guò)流量計(jì)和靜態(tài)混氣室把氣體均勻混拌,通過(guò)上通氣,氣體通過(guò)雙層管(夾層管預(yù)熱氣體,內(nèi)腔體生長(zhǎng)碳納米管)確保通入的氣體進(jìn)入生長(zhǎng)腔體內(nèi)溫度一直,通過(guò)多空陶瓷網(wǎng)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),從而解決均勻進(jìn)氣的問(wèn)題。使的生長(zhǎng)腔體熱場(chǎng)流場(chǎng)穩(wěn)定,確保得到高質(zhì)量重復(fù)性好的碳納米管。(另配一臺(tái)加熱霧化裝置,一個(gè)氫氣報(bào)警器)

1、爐管材質(zhì):高純石英管

2、爐管尺寸:OD: 80 mm (外管),OD 50mm(內(nèi)管)

3、加熱元件:康奈爾電阻絲

4、工作溫度:連續(xù)工作溫度:≤1100℃

5、溫控系統(tǒng):30段可編程控溫,PID參數(shù)自整定,操作界面為7"液晶觸摸屏控制

6、控溫精度:±1℃

7、加熱區(qū)長(zhǎng)度:600mm

8、恒溫區(qū)長(zhǎng)度:400mm

供氣系統(tǒng)

內(nèi)部裝有3路高精度質(zhì)量流量計(jì)可準(zhǔn)確的控制氣體流量;設(shè)靜態(tài)混氣室,有助于氣體充分混合,按要求配比。

工作電壓:185~245V 50HZ

Z大輸出功率:18W

流量計(jì)標(biāo)準(zhǔn)量程:100sccm,200sccm,200sccm,500sccm(非特殊以氮?dú)鈽?biāo)定,量程可選)

工作溫度:5~45℃

工作壓差:0.1~0.5MPa

Z大壓力:3MPa

準(zhǔn)確度:±1.5% FS

測(cè)量范圍:-0.1~0.15 MPa(0.01 MPa/grid)

針閥:316不銹鋼

混氣罐:Φ80×120mm

截止閥:Φ6mm"316不銹鋼針閥

尺寸:600×600×650 mm


連續(xù)進(jìn)出料可回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng) BTF-1200C-II-R-CVD 實(shí)驗(yàn)

1、主要特點(diǎn)該設(shè)備爐管可360°旋轉(zhuǎn),有助于粉料的燒結(jié)更均勻,可大角度

滑軌式CVD系統(tǒng)(型號(hào):BTF-1200C-SL-CVD) 實(shí)驗(yàn)室臭氧

設(shè)備特點(diǎn)此款設(shè)備是專(zhuān)為生長(zhǎng)石墨烯研制的石墨烯薄膜生長(zhǎng)專(zhuān)用爐,也同樣適用

國(guó)產(chǎn)高真空CVD系統(tǒng)(型號(hào):BTF-1200C-II-CVD) 實(shí)驗(yàn)室

設(shè)備特點(diǎn)此套設(shè)備是由1200℃雙溫區(qū)開(kāi)啟式管式爐、三路質(zhì)量流量計(jì)及低真

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