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工業(yè)CT nanoVoxel 2000

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

工業(yè)CT nanoVoxel 2000

詳細(xì)介紹

nanoVoxel 2000系列X射線三維顯微CT突破了傳統(tǒng)的光學(xué)顯微鏡、掃描電鏡、透射電鏡等表面顯微成像技術(shù)的局限性，以較高的分辨率和襯度，解密樣品內(nèi)部三維結(jié)構(gòu)信息。
nanoVoxel 2000系列X射線三維顯微CT將限度的保護(hù)貴重樣品的原貌和利用率，滿足跨尺寸樣品從宏觀到微觀不同分辨率的成像需求，為業(yè)內(nèi)提供了全新的高分辨率3D/4D檢測(cè)技術(shù)解決方案。

長(zhǎng)工作距離下的微納米空間分辨率成像

nanoVoxel 2000系列X射線三維顯微CT，不受樣品尺寸、和外部環(huán)境的影響，在距離射線源數(shù)毫米至數(shù)厘米的工作距離上仍能獲得高達(dá)500納米的真實(shí)空間分辨率。

突破性的二級(jí)光學(xué)放大

突破了傳統(tǒng)斷層成像（簡(jiǎn)稱CT）技術(shù)中單純依賴大視野平板探測(cè)器一級(jí)幾何放大成像的原理，通過(guò)二級(jí)光學(xué)放大技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了超越傳統(tǒng)斷層成像技術(shù)的無(wú)損三維亞微米級(jí)別的高分辨率、高襯度成像。

無(wú)限接近同步輻射的高吸收/相位襯度成像系統(tǒng)

基于*的吸收襯度成像、相位襯度成像和超分辨成像技術(shù)，使得nanoVoxel 2000系列X射線三維顯微CT通用性大大提升，應(yīng)用領(lǐng)域從低原子序數(shù)的軟材料，如不同纖維復(fù)合材料、泡沫材料、高分子材料、動(dòng)物軟組織，到高原子序數(shù)的巖石、合金、金剛石、電子器件等，均可提供高對(duì)比度、出色圖像質(zhì)量的結(jié)構(gòu)信息。演繹了同步輻射光源實(shí)驗(yàn)室實(shí)現(xiàn)的相稱成像效果。

簡(jiǎn)單的操作流程

可進(jìn)行全自動(dòng)樣品掃描，實(shí)驗(yàn)條件簡(jiǎn)單，無(wú)需復(fù)雜制樣，無(wú)需真空環(huán)境，降低了對(duì)設(shè)備操作人員的專業(yè)要求。

關(guān)鍵詞：光學(xué)顯微鏡

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