污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
上海百賀儀器科技有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)EVO MA 25/LS 25
品 牌
廠商性質(zhì)其他
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更新時(shí)間:2023-03-21 16:43:06瀏覽次數(shù):198次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線蔡司掃描電子顯微鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究
蔡司掃描電子顯微鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測(cè)量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測(cè)量。
一、蔡司掃描電子顯微鏡EVO MA 25/LS 25技術(shù)參數(shù)
1、分辨率:2.0nm@30KV(SE with Lab6 option) 3.0nm@30KV(SE and W) 4.5nm@30KV(VP with BSD)
2、加速電壓:0.2—30KV
3、放大倍數(shù):5—1000000x
4、視野范圍:6mm
5、X-射線參數(shù):8.5mm WD,35度接收角
6、壓力范圍:10—400Pa (LS25-3000Pa)
7、工作室:420mm(φ)×330mm(h)
8、5軸試樣載物臺(tái):X=130mm Y=130mm Z=50mm T=0-90°R=360°
9、試樣高度:210mm,試樣直徑:300mm
10、系統(tǒng)控制:基于Windows XP 的SmartSEM
二、蔡司掃描電鏡EVO MA 25/LS 25主要特點(diǎn)
1、的樣品高度可達(dá)210mm
2、樣品重量5Kg
3、的樣品直徑300mm
4、能在可變壓力下操作
5、高亮度LaB6資源選擇
6、光線套選擇
三、蔡司掃描電鏡EVO MA 25/LS 25技術(shù)優(yōu)勢(shì)
1. 在z軸上可機(jī)動(dòng)化的移動(dòng)50mm并且在X和Y軸上可移動(dòng)130mm
2. 通用圖像處理
3. 用X射線分析改進(jìn)了LaB6成像質(zhì)量
4. 支持兩個(gè)空間的范圍
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