- 高速、準確
- 完整集成了實時測量、建模和報告軟件包
- 便于在線和離線間切換
可獲得的信息
- 薄膜厚度
- 光學常數(shù)(n,k)
- 材料組成
上海亨東儀器有限公司
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更新時間:2024-02-18 14:51:15瀏覽次數(shù):292次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線日本HORIBA UVISEL Plus In-Situ 在線監(jiān)控橢偏儀可以很容易的安裝在各類反應腔(PECVD、MOCVD、磁控濺射、蒸鍍、ALD和MBE),實時監(jiān)控薄膜沉積或刻蝕過程。
可獲得的信息
UVISEL Plus在線監(jiān)控橢偏儀可以很容易的安裝在各類反應腔(PECVD、MOCVD、磁控濺射、蒸鍍、ALD和MBE),實時監(jiān)控薄膜沉積或刻蝕過程。
UVISEL Plus在線橢偏儀結合了速度快、靈敏度高、動態(tài)范圍寬和準確等優(yōu)點,使其能夠在原子層水平監(jiān)控沉積/刻蝕,即使過程速度比較快也可實現(xiàn)。
采用新型適配器組件可以實現(xiàn)臺式設備和在線系統(tǒng)的切換。
UVISEL Plus在線橢偏儀使用DeltaPsi2軟件驅動,該軟件適用于HORIBA所有橢偏儀。DeltaPsi2具有眾多的建模和擬合處理功能,操作界面簡單,可為研究者提供便捷的橢偏分析手段。的通訊協(xié)議,TCP/IP和RS232已被設計用于生產環(huán)境和OEM。
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