詳細摘要： PlasmaPro 80 ICP 英國牛津OXFORD 等離子體刻蝕機，是一種結構緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-18 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
深圳市藍星宇電子科技有限公司
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詳細摘要： PlasmaPro 80 ICP 英國牛津OXFORD 等離子體刻蝕機，是一種結構緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-18 在線留言
詳細摘要： PlasmaPro 80 RIE 牛津等離子體刻蝕機，是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-17 在線留言
詳細摘要： RIE 等離子刻蝕機 SI 591，特別適用于采用氟基和氯基氣體的工藝，可以通過預真空室和電腦控制的等離子工藝系統(tǒng)實現(xiàn)。SI 591的特點是占地空間小，高度靈活...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-16 在線留言
詳細摘要： 牛津原子層刻蝕機PlasmaPro 100 ALE，它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發(fā)，通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-15 在線留言
詳細摘要： 牛津離子束刻蝕機Ionfab 300 IBE，離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-14 在線留言
詳細摘要： ICP-RIE SI 500 德國Sentech等離子刻蝕機, 等離子刻蝕設備SI 500使用低離子能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻蝕和納米結構刻蝕。通過在廣...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-13 在線留言
詳細摘要： Etchlab200 德國Sentech 經(jīng)濟型反應離子刻蝕機(可升級), 具備低成本效益高的特點，并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過載...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-12 在線留言
詳細摘要： 英國Oxford 反應離子刻蝕機PlasmaPro 800 RIE，是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻（RI...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-11 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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