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生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW

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沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐，專為生長(zhǎng)各種納米線而設(shè)計(jì)，基片3″。在法蘭的左側(cè)裝有一個(gè)小加熱器，可對(duì)輸入的氣體、液體、固體進(jìn)行預(yù)加熱后進(jìn)入 CVD 爐進(jìn)行納米線的生長(zhǎng)。其可滑動(dòng)的樣品架使操作更為簡(jiǎn)單。

產(chǎn)品型號(hào)	生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC380V 50Hz（63A空氣開(kāi)關(guān)），必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭） 4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要
主要特點(diǎn)	1、由OTF-1200X-4單溫區(qū)爐演變而來(lái)的緊湊型CVD爐。 2、內(nèi)爐膛表面涂有進(jìn)口高溫氧化鋁涂層，可以提高設(shè)備的加熱效率及延長(zhǎng)儀器的使用壽命。 3、帶樣品支架的右法蘭是滑動(dòng)的，方便樣品的快速取放。 4、左側(cè)的小加熱器可對(duì)輸入CVD 爐的氣體、液體、固體或混合物進(jìn)行預(yù)加熱，不銹鋼加熱腔外徑Ø30mm、長(zhǎng)150mm，工作溫度600℃。 5、左邊法蘭（在加熱器與CVD爐之間）裝有4個(gè)1/4"卡套連結(jié)的通氣管，具有密封和氣體通道的作用。 6、PID自整定數(shù)字控制器，可以設(shè)置30段升降溫程序。 7、選配相關(guān)軟件可用計(jì)算機(jī)進(jìn)行控溫。 8、已通過(guò)CE認(rèn)證。
技術(shù)參數(shù)	1、額定電壓：?jiǎn)蜗?/span>AC 220V 50Hz/60Hz 2、額定功率：3KW（需20A的空氣開(kāi)關(guān)） 3、石英管：外管外徑Ø110mm，內(nèi)徑Ø102mm，長(zhǎng)381mm 4、加熱區(qū)域：CVD爐400mm，加熱器150mm， 5、工作溫度：CVD爐1100℃（<2h），連續(xù)工作200℃-1000℃，升降溫速率10℃/min；加熱器連續(xù)工作0-500℃，升降溫速率10℃/min 6、控溫精度：±1℃ 7、熱電偶：K型 8、右法蘭：一個(gè)3"石英樣品支架，與石英擋板、法蘭連成一體，設(shè)有KF25真空快接口，以及水冷接口（可選配水冷機(jī)，避免O型圈融化） 9、左法蘭：有2個(gè)獨(dú)立1/4″口，可單獨(dú)將任何氣體通入爐內(nèi)，一路1/4"口將預(yù)熱氣體通入CVD爐，一路1/4″口將不加熱的氣體通入爐內(nèi)，并通過(guò)爐內(nèi)的T型結(jié)構(gòu)與加熱氣體匯合
產(chǎn)品規(guī)格	尺寸：1200mm×450mm×510mm；重量：100kg
可選配件	1、冷水機(jī) 2、控溫軟件