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沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地沈陽市
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更新時間:2023-06-30 21:27:15瀏覽次數(shù):168次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介:450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等,廣泛應(yīng)用于大專院校、科研機構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)。
產(chǎn)品型號 | 450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) |
技術(shù)參數(shù) | 系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。 技術(shù)指標: 極限真空度:≤6.7×10 Pa 恢復真空時間:從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 系統(tǒng)漏率:6. 7×10-7Pa.L/S; 真空室:真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門,后置抽氣系統(tǒng)e型電子槍:陽極電壓:6kv、8kv(1套) 坩堝:水冷式坩堝,四穴設(shè)計,每個容量11ml 功率:0-6KW可調(diào) 電阻蒸發(fā)源(可選) 電壓:5、10V 功率:電流300A,輸出功率3Kw1套,可切換水冷電 極3根,組成2個蒸發(fā)舟 基片尺寸:可放置4″基片 樣品臺:基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm加熱溫度 800°C±1°C,可調(diào)手動控制樣品擋板組件1套 氣路系統(tǒng):質(zhì)量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制儀:監(jiān)測膜厚顯示范圍:0-99μ9999Å |
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