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武漢科思特CS350H電化學(xué)工作站

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更新時(shí)間：2023-01-07 12:06:28瀏覽次數(shù)：727次

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  材料物性分析

粘度計(jì)

膜厚儀

德國(guó)尼克斯

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合肥科晶

上海衡平張力儀

辰華電化學(xué)工作站

武漢科思特

上海辰華

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森瑪特儀器（北京）有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

武漢科思特CS350H電化學(xué)工作站 CS系列電化學(xué)工作站具有出*的穩(wěn)定性和精*度，*的硬件和功能完善的軟件，為涉及能源、材料、生命科學(xué)、環(huán)保等領(lǐng)域的科技工作者提供了*秀的科研平臺(tái)。具體應(yīng)用于：1）電合成、電沉積（電鍍）、陽(yáng)極氧化等反應(yīng)機(jī)理研究；2）電分析化學(xué)研究；電化學(xué)傳感器的性能研究；3）新型能源材料（鋰離子電池、太陽(yáng)能電池、燃料動(dòng)力電池和超級(jí)電容器等）、*功能材料以及光電材料的性能研究

詳細(xì)介紹

1、武漢科思特CS350H電化學(xué)工作站硬件參數(shù)指標(biāo)
恒電位電位控制范圍：±10V

恒電流控制范圍：±2.0A

電位控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV

電流控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)

電位分辨率：10mV(>100Hz), 3mV(<10Hz)

電流靈敏度：1pA

電位上升時(shí)間：<1mS(<10mA), <10mS(<2A)

參比電極輸入阻抗：10¹²W||20pF

電流量程：2nA～2 A ，共10檔

槽壓：±21V（可擴(kuò)展至±200V）

大輸出電流：2.0A

CV 和LSV掃描速度：0.001mV～10000V/s

CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s

電流掃描增量：1mA @1A/mS

電位掃描時(shí)電位增量：0.076mV @1V/mS

SWV頻率：0.001～100KHz

DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s

AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz, 20bit @1KHz

DA分辨率：16bit, 建立時(shí)間：1mS

CV的小電位增量：0.075mV

IMP頻率：10mHz~1MHz

低通濾波器：8段可編程

電流與電位量程：自動(dòng)設(shè)置

接口通訊模式：USB2.0

2、武漢科思特CS350H電化學(xué)工作站

電化學(xué)阻抗功能指標(biāo)

信號(hào)發(fā)生器：

頻率響應(yīng)：10mHz~1MHz

頻率精*度：0.005%

交流信號(hào)幅值：1mV~2500mV

號(hào)分辨率：0.1mV RMS

直流偏壓：-10~+10V

DDS輸出阻抗：50W

波形：正弦波，三角波，方波

正弦波失真：<1%

掃描方式：對(duì)數(shù)/線性，增加/下降

信號(hào)分析器：

小積分時(shí)間：10mS 或循環(huán)的長(zhǎng)時(shí)間

大積分時(shí)間：10⁶個(gè)循環(huán)或者10⁵S

測(cè)量時(shí)間延遲：0~10⁵秒

直流偏置補(bǔ)償：

電位自動(dòng)補(bǔ)償范圍：-10V~+10V

電流補(bǔ)償范圍：-1A~+1A帶寬調(diào)整(Bandwidth) ：自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置，共8級(jí)可調(diào)

3、CorrTest測(cè)量與控制軟件主要功能

穩(wěn)態(tài)極化：開(kāi)路電位測(cè)量（OCP）、恒電位極化（I-t曲線)、恒電流極化、動(dòng)電位掃描（TAFEL曲線）、動(dòng)電流掃描（DGP）

暫態(tài)極化：任意恒電位階梯波、任意恒電流階梯波、多電位階躍（VSTEP）、多電流階躍

計(jì)時(shí)分析：計(jì)時(shí)電位法（CP）、計(jì)時(shí)電流法（CA）、計(jì)時(shí)電量法（CC）

伏安分析：線性掃描伏安法（LSV）^#、線性循環(huán)伏安法（CV）、階梯循環(huán)伏安法（SCV）^#、方波伏安法（SWV）^#、差分脈沖伏安法（DPV）^#、常規(guī)脈沖伏安法（NPV）^#、常規(guī)差分脈沖伏安法（DNPV）^#、差分脈沖電流檢測(cè)法（DPA）、雙差分脈沖電流檢測(cè)法（DDPA）、三脈沖電流檢測(cè)法（TPA）、積分脈沖電流檢測(cè)法（IPAD）、交流伏安法（ACV）^#、二次諧波交流伏安（SHACV）、傅里葉變換交流伏安（FTACV）（標(biāo)#號(hào)的方法包括相應(yīng)的溶出伏安分析方法）交流阻抗：電化學(xué)阻抗（EIS）～頻率掃描、電化學(xué)阻抗（EIS）～時(shí)間掃描、電化學(xué)阻抗（EIS）～電位掃描（Mott-Schottky曲線）腐蝕測(cè)量：動(dòng)電位再活化法（EPR）、電化學(xué)噪聲（EN）、電偶腐蝕測(cè)量（ZRA）、氫擴(kuò)散測(cè)試（HDT，氫擴(kuò)散測(cè)試中主動(dòng)式充氫需要另行配置CS1002精密恒流源使用）、晶間腐蝕測(cè)量