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HTM PECVD設(shè)備

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更新時間:2022-08-30 10:39:08瀏覽次數(shù):297次

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品介紹NF-300HHTM PECVD設(shè)備 產(chǎn)品介紹NF-300H 設(shè)備由拓荊科技承擔了國家十三五重大專項,自主研發(fā),擁有自主知識產(chǎn)權(quán)。應(yīng)用于128層及以上3D NAND閃存芯片的生產(chǎn)??蓪崿F(xiàn)SiO2、SiN(ONON)多層薄膜堆疊結(jié)構(gòu)和Thick TEOS 薄膜,在均勻性、顆粒度、粗糙度、應(yīng)力及產(chǎn)能等方面實現(xiàn)技術(shù)突破,設(shè)備性能指標達同類產(chǎn)品水平......

詳細介紹

產(chǎn)品特點

NF-300H
HTM PECVD設(shè)備

產(chǎn)品特點
- 高產(chǎn)能設(shè)計和可實現(xiàn)多種薄膜沉積的快速切換
- 可實現(xiàn)多層SiO2,SiN(ONON)堆疊功能
- 滿足300-600℃高溫沉積需求
- PM腔內(nèi)可進行多片wafer沉積和wafer自動升降旋轉(zhuǎn)功能
- 通過S2安全認證

 

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