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離子濺射儀 MC1000

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品       牌

廠商性質(zhì)其他

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更新時(shí)間:2022-10-02 12:39:08瀏覽次數(shù):214次

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經(jīng)營(yíng)模式:其他

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所在地區(qū):

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

采用磁控型電極,限度地減輕對(duì)樣品的損壞

詳細(xì)介紹

采用磁控型電極,限度地減輕對(duì)樣品的損壞。

 

特點(diǎn):

? 采用LCD觸摸屏,可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件

? 可處理較厚或較大的樣品(選配件)

? 記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

 

規(guī)格:

項(xiàng)目 說(shuō)明
放電 類型 磁控二極管放電型(電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng))
電極組成 反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓 0.4 kV DC(直流可變)
電流 40 mA DC
噴鍍速率 *1()
[條件]
壓力:7 Pa
放電電流:40 mA
標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20 mm
Pt 靶(選配件) 15 nm/min
Pt-Pd 靶(選配件) 20 nm/min
Au 靶(選配件) 35 nm/min
Au-Pd 靶(選配件) 25 nm/min
樣品尺寸 直徑 φ60 mm
高度 20 mm
機(jī)械泵 135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2 Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求 單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸 寬度 450 mm
長(zhǎng)度 391 mm
高度 390 mm
重量 主機(jī):約 25 kg
機(jī)械泵:約 28 kg
*1
: 噴鍍速率僅供參考
*2
: 主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請(qǐng)從選項(xiàng)中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)。

 


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